Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

SEMATECH Namn direktör och biträdande direktör för dess Litografi Division

Published on September 10, 2008 at 10:58 PM

SEMATECH meddelade idag att de erkända tekniker Dr Bryan J. Rice och Dr Stefan Wurm har utsetts direktör och biträdande direktör för dess Litografi Division. De kommer att ansvara för att säkerställa att SEMATECH strategiska inriktning och dess genomförande stöd kritiska litografi teknikområden.

Dr Rice, som senast fungerat som fördjupnings program manager, ersätter fd direktör Michael Lercel, som har återvänt till IBM från sin SEMATECH uppdrag. Rice har varit på uppdrag att SEMATECH från Intel Corporation sedan 2006. Han har lett SEMATECH höga forskning index nedsänkning i jakten på höga brytningsindex linsen och nedsänkning material vätska. Dessutom har Rice varit avgörande för att bilda SEMATECH dubbla exponering programmet, med inriktning på prospektering av nya material för lito-lito-etch mönstring tillvägagångssätt.

Rice har en doktorsexamen i kärnfysik från Duke University samt en kandidatexamen i fysik och en magisterexamen i datavetenskap från Georgia Institute of Technology. Han har gjort elva patent i USA och är författare till ett flertal publikationer om litografi och mätteknik.

Dr Wurm, som senast fungerat som SEMATECH extrema ultraviolett (EUV) program manager, har lett SEMATECH s EUV strategi för mer än fyra år. Han har bidragit till att forma och styra SEMATECH EUV program som ger världen EUV infrastruktur kapacitet och teknik lära sig att SEMATECH medlemmar. Han har mer än 20 års branscherfarenhet och FoU-erfarenhet och har innehaft befattningar inom teknikutveckling på Siemens Semiconductors, Infineon och Qimonda. Wurm kommer att på uppdrag av Advanced Micro Devices, som han nyligen gick som en huvudmedlem av teknisk personal.

Wurm har en doktorsexamen i fysik från Technische Universität München, Tyskland. Han har gjort mer än tio amerikanska och icke-amerikanska patent och är författare till flera publikationer som täcker litografi, grundforskning, halvledarteknik och tillverkning.

Last Update: 5. November 2011 06:14

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit