Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

KLA-Tencor Вводит Самую Последнюю Технологию Осмотра Плоскости Вафли

Published on September 30, 2008 at 10:17 AM

Сегодня KLA-Tencor Корпорация ввело версию плашк-к-базы данных своей самой последней технологии осмотра маски, Осмотра Вафли Плоского (TM) (WPI). WPI позволяет логике ведущей кромки и создателям маски плавильни одновременно обнаружить дефекты на маске и определить ли дефекты правоподобны для того чтобы напечатать на вафле. Для the first time, эта возможность доступна для перекрещений одиночн-плашки и перекрещений множественн-плашки с non-повторяя полями.

«Несколько применений завещают извлекали пользу возможность плашк-к-базы данных WPI новая,» заметили Zain Saidin, главный офицер инженерства и генеральный директор Перекрещения KLA-Tencor и Разделения Осмотра Photomask. «Лидирующие обломоки графиков и лидирующие programmable приборы клонат быть изготовленным на перекрещениях одиночн-плашки потому что обломоки настолько большие. Photomasks содержа различные обломоки для множественных клиентов часто использованы плавильнями как средство улучшать эффективность. Для того чтобы облегчить более быстро выучить во время развития, создателя маски устанавливают множественные версии плашки на одиночном перекрещении. Окончательно, повторение нескольких дефектов в таком же положении каждого умирает. режимы Плашк-к-Плашки и клетк-к-клетки не работают в этих ситуациях. С возможностью плашк-к-базы данных, WPI включает обнаружение printable дефектов на всех перекрещениях-не как раз те с повторять структуры.»

Несравненное разрешение изображений произведенных системой контроля перекрещения TeraScan KLA-Tencor позволяет WPI высчитать не только как свет освещает верхнюю поверхность фоторезиста на вафле (изображении воздушн-плоскости `'), но также как фоторезист отвечает (изображение вафл-плоскости `'). Изображение вафл-плоскости более точно предсказывает которые дефекты правоподобны для того чтобы напечатать на вафле.

Создателя Photomask в Тайвани, Японии и Соединенные Штаты устанавливали WPI на их системы контроля TeraScan, и помогали от своей силы ускорить ход развития, продукции и квалификации маски. Возможность плашк-к-базы данных WPI новая часть обширного портфолио продуктов от KLA-Tencor конструировала адресовать вопросы метрологии и осмотра предварительный делать по образцу.

Last Update: 14. January 2012 19:47

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit