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Carl Zeiss Führt Pixer-Technologie-Erwerb durch

Published on October 2, 2008 at 11:32 AM

Nachdem das formale Schließen seiner neuen Datenerfassung von Karmiel (Israel) Pixer Technology Ltd. basierte, stellt Halbleiter-Metrologie-Anlagenabteilung Carl Zeisss SMTs (SMS) seine Markt-führende Reihe von Regelproduktlösungen Symposium am Semicon-Europa-(Stuttgart, Deutschland) und SPIE-/BACUSFotomaske dar (Monterey, CA).

„Wir freuen uns, anzukündigen, dass die Datenerfassung von Pixer-Technologie formal geschlossen worden ist und dass wir die Integration von Operationen, von R&D und von Produktlinien in SMS“ initialisiert haben, sagten Dr. Oliver Kienzle, Vorstandsmitglied von Carl Zeiss SMTs SMS-Abteilung. „Zum ersten Mal, sind wir in der Lage, unseren vergrößerten Produktlösungseffektenbestand für Fotomaskenqualifikation, Metrologie, Reparatur und kritische Abmessungsregelung anzuzeigen (CDC). Bei Zunahme der Kultiviertheit in der optischen Lithographie wie Immersionslithographie und doppeltem Kopieren, verstehen wir, dass Maskenhersteller festere Maskenbedingungen, insbesondere für kritische Abmessungseinheitlichkeit und -überlagerung“ gegenüberstellen, erklärten Kienzle und fortfuhren: „Mit dem neuen Pixer-Technologieerwerb haben wir weiter unseren Technologieeffektenbestand verstärkt und in der Lage sind, unseren Abnehmern umfassende Lösungen anzubieten, um diese Herausforderungen übereinzustimmen.“ Zum Beispiel können die festeren CD-Einheitlichkeitsanforderungen erzielte Nachmaske Herstellung durch die revolutionäre Anlage CDC200 sein. Mit dem resultierenden erhöhten Prozessfenster im Lithographieprozeß, sind IS-Hersteller in der Lage, ihre Zeilenendeerträge zu erhöhen und ihre Herstellungskosten zu verringern.

Pixer-Technologie hat die eindeutigen Ertragverbesserungstechnologien für Fotomasken in der Halbleiterproduktion entwickelt, aktuell reflektiert in zwei Produktlinien: CDC200 ist der Industrie erster Schnell-, integrierte Lösung zur hochauflösenden Kritischen Abmessungs-Regelung (CDC) und aktiviert Masken-Hersteller und IS-Hersteller, lokale CDs (Kritische Abmessungen) zu steuern, sowie nach globaler und lokaler CD Einheitlichkeit über Masken und Wafers während der lithographischen Operationen beträchtlich zu verbessern. Die zweite Produktlinie, Galileo, aktiviert Hochgeschwindigkeitsmaß und das Abbilden des DUV-Übertragungsabbaus auf Produktionsmasken mit Empfindlichkeit zu den Übertragungsänderungen von 0,1%. Konstruiert für das Abbilden von Produktionsmasken in dem Tollen, um Ertrag- und CDU-Abbaupunkte wie Belag zu kennzeichnen, kann sie für Quarz und MoSi beschichtete Abdeckungen zusätzlich verwendet werden.

Last Update: 14. January 2012 19:06

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