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Carl Zeiss Ejecuta la Adquisición de la Tecnología de Pixer

Published on October 2, 2008 at 11:32 AM

Después del closing formal de su adquisición reciente de Karmiel (Israel) basó Pixer Technology Ltd. , La división de Sistemas de la Metrología del Semiconductor de Carl Zeiss SMT (SMS) presenta su habitación mercado-de cabeza de las soluciones a circuito cerrado del producto en el Simposio del Europa de Semicon (Stuttgart, Alemania) y del Photomask de SPIE/BACUS (Monterey, CA).

“Estamos satisfechos anunciar que la adquisición de la Tecnología de Pixer ha estado cerrada formalmente y que hemos inicializado la integración de operaciones, del R&D y de las líneas de productos en SMS”, dijimos al Dr. Oliverio Kienzle, Pieza de la Tarjeta de la División de SMS de Carl Zeiss SMT. “Por primera vez, podremos visualizar nuestra cartera aumentada de las soluciones del producto para la aptitud del photomask, la metrología, la reparación y el mando crítico de la dimensión (CDC). Con el aumento de la sofisticación en litografía óptica tal como litografía de la inmersión y modelar doble, entendemos que los fabricantes de la máscara están haciendo frente a pliegos de condiciones más apretados de la máscara, particularmente para la uniformidad crítica y el papel de la dimensión”, explicamos Kienzle y continuamos: “Con la adquisición reciente de la Tecnología de Pixer hemos fortalecido más lejos nuestra cartera de la tecnología y podemos ofrecer a nuestros clientes soluciones completas para corresponder con estos retos.” Por ejemplo, los requisitos más apretados de la uniformidad del CD pueden ser fabricación lograda de la poste-máscara por el sistema revolucionario CDC200. Con la ventana de proceso creciente resultante en el proceso de la litografía, los fabricantes de IC pueden aumentar su fin-de-línea rendimientos y reducir sus costos de fabricación.

La Tecnología de Pixer ha desarrollado las tecnologías únicas del aumento del rendimiento para los photomasks en la producción del semiconductor, reflejadas actualmente en dos líneas de productos: CDC200 es la industria solución simultánea, integrada la primera para el Mando Crítico de alta resolución de la Dimensión (CDC), permitiendo a Fabricantes de la Máscara y a los Fabricantes de IC controlar los Cdes locales (Dimensiones Críticas), así como mejorar importante sobre Uniformidad global y local del CD a través de máscaras y de fulminantes durante operaciones litográficas. La segunda línea de productos, Galileo, activa la medición y la correspondencia de alta velocidad de la degradación de la transmisión de DUV en máscaras de la producción con sensibilidad a los cambios de la transmisión de 0,1%. Diseñado para correlacionar máscaras de la producción en el Fabuloso para determinar ediciones del rendimiento y de la degradación de CDU tales como oscuridad, puede ser utilizada además para el cuarzo y los espacios en blanco recubiertos MoSi.

Last Update: 17. January 2012 07:13

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