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EV-Gruppen-Lieferungen 100. Nanoimprint-Lithographie-Anlage

Published on October 14, 2008 at 10:04 AM

EV-Gruppe (EVG), ein führender Lieferant des Wafermasseverbindungs- und -lithographiegeräts für das MEMS, Nanotechnologie und Halbleitermärkte, kündigten heute an, dass es seine 100. nanoimprint Lithographieanlage versendet (NIL) hat. Der Meilensteinversand ist nicht nur für EVG beträchtlich -- welches einen ungefähren 30-Prozent-Anteil des Marktes mit den meisten NULL-Anlagen auf dem Gebiet anhält -- aber auch für die Gesamt Industrie, als sie dient, das beträchtliche Wachstum der eingebauten Basis der globalen NULL zu markieren, die mehr als in den letzten vier Jahren verdoppelt worden ist.

„Nanoimprint-Lithographie ist eine aktivierende Technologie für die optischen und microfluidic Anwendungen,“ notierter Paul Lindner, Exekutivtechnologiedirektor für EV-Gruppe. „Mit fester Übernahme EVGS zur NULL-Entwicklung und Kommerzialisierung, zusammen mit unseren Industrie-führenden NULL-Produkten, einschließlich unsere EVG770 voll-automatisierten Stepper- und EVG750 voll-automatisierten Heißen Prägungsanlagen der NULL, bleiben wir gut in Position gebracht, um als diese zu fördern und andere Märkte wie Chemikalie und Biosensor bewegen sich in Großserienproduktion.“

Des NULL-Anlagen-Versands EVGS 100. weitere Unterstreichen der laufende Antrieb, zum von Annahme der NULL zu erweitern bereitet auf. Als führender Befürworter dieser Bemühung, gründete EVG das NILCOM-Konsortium im Jahre 2004. Der Auftrag des Konsortiums, dessen Dutzend Bauteile Gerät, Materialien, Prozesse und Forschung überspannen, ist, eine Großserien-NULL-Herstellungsplattform festzulegen, die innerhalb einer großen Auswahl von Technologiearenas, einschließlich nanoelectronics, Optoelektronik, Datenspeicher und Biowissenschaften Handels- ausgefahren werden kann.

Neue Erfolge in diesen Bereichen haben die NULL-Prozesse umfaßt, die Handels- im Optikmarkt für CMOS-Bildfühler, photoelektrische Strichgitter und LED sowie Verpflichtung vom Markt des Festplattenlaufwerks (HDD) verwendet werden, um NULL für ihre Straßenkarten in den Media der getrennten Spuraufnahme (DTR) einzusetzen und des Bitmusters (BPM). Diese Anflüge werden erwartet, in den zukünftigen Generationen von HDD-Produkten eingeführt zu werden, um Datenspeicherdichten mehr als 10^12 bits/in^2. zu aktivieren.

EVG stellt seine neue Arbeitsstempeltechnologie für UV-basierte Impressumlithographieanwendungen an der 7. jährlichen Internationalen Konferenz auf Technologie Nanoimprint und Nanoprint (NNT) vor, die 13. bis 15. Oktober 2008 im Konferenzzentrum Kyoto-Internationaler Konferenz in Kyoto, Japan angehalten wird.

Last Update: 14. January 2012 18:08

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