Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

De Holding ASML Onthult Innovaties in het Platform van de Lithografie TWINSCANTM

Published on October 15, 2008 at 9:01 PM

ASML de Holding NV onthulde vandaag innovaties in zijn TWINSCANTM lithografieplatform die significante verbeteringen van bekleding en productiviteit aanbieden, toelatend de halfgeleiderindustrie om zijn roadmap voor geavanceerdere en betaalbare spaanders voort te zetten. Het platform TWINSCAN NXT, aan de media bij het Overzicht van het Onderzoek wordt voorgesteld ASML is ook geschikt voor nieuwe dubbele het vormen technieken die de fabrikanten nodig hebben om de kleinste spaandereigenschappen door maximaal 42 percenten te krimpen dat.

Het platform TWINSCAN NXT kenmerkt een nieuw vlakontwerp van het wafeltjestadium, die de modulaire architectuur TWINSCAN uitbreiden (waarvan bijna 900 systemen) zijn verkocht voor veelvoudige generaties van ASML lithografiemachines. Verstrekkend een basislijn voor verdere prestatiesverbeteringen, is de nieuwe technologie van het wafeltjestadium zeer belangrijk aan goed het voortzetten van de tendens van de agressieve verminderingen van spaanderkosten in de toekomst.

Dank aan een nieuw concept en innovatieve materialen, het wafeltjestadium is aanzienlijk lichter dan vorige generaties. Dit, in combinatie met een elegant ontwerp dat overheadkosten vermindert, laat hoge versnelling voor kortere het plaatsen (het stappen) tijden toe. Dientengevolge, zal het platform aanvankelijk productiviteit door meer dan 30 percenten verbeteren.

Bovendien plaatst een nieuw plaatsend metingssysteem nauwkeuriger het wafeltjestadium dan in huidige systemen. De resulterende de bekledingsverbetering van 50 percenten zal fabrikanten helpen betere controle van hun proces bereiken zodat kunnen zij meer goede spaanders per wafeltje produceren en verder transistorgrootte krimpen.

De „Eigenschap krimpt vooruit aandrijving de halfgeleiderindustrie door kleinere spaanders met grotere functionaliteit toe te laten en de lagere machtsconsumptie,“ zegt Martin van den Brink, de uitvoerende ondervoorzitter van ASML van marketing en technologie. „Onze nieuwe systemen brengen verbeteringen die zullen helpen de kleinere eigenschappen van het makersbeeld afbreken. Het Betere wafeltje plaatsen levert meer weergavecontrole en betere bekleding. In combinatie met betere productiviteit, opent het platform TWINSCAN NXT de weg voor dubbel vormend technieken die spaanderfabrikanten in tijd toestaan om de bestaande technologie van de onderdompelingslithografie voor volumeproductie bij de 32 nanometerknoop te gebruiken en verder.“

Last Update: 14. January 2012 19:32

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit