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ASML Holding Innovations revela em TWINSCANTM Plataforma Litografia

Published on October 15, 2008 at 9:01 PM

ASML Holding NV anunciou hoje inovações em sua plataforma de litografia TWINSCANTM que oferecem melhorias significativas em sobreposição e produtividade, permitindo que a indústria de semicondutores para continuar seu roteiro para os chips mais avançados e acessíveis. O TWINSCAN plataforma NXT, apresentado à imprensa na Revisão de Pesquisa ASML também é adequado para emergentes técnicas de padronização de casal que os fabricantes precisam reduzir os recursos menor chip em até 42 por cento.

O TWINSCAN plataforma NXT apresenta um design novo estágio planar wafer, estendendo a arquitetura modular TWINSCAN (dos quais quase 900 sistemas foram vendidos) para várias gerações de máquinas de litografia ASML. Fornecendo uma base para upgrades de performance ainda mais, a tecnologia nova etapa wafer é a chave para continuar a tendência de reduções agressivas de chips de custo no futuro.

Graças a um novo conceito e materiais inovadores, o palco wafer é consideravelmente mais leve que as gerações anteriores. Isto, em combinação com um design elegante que reduz a sobrecarga, permite aceleração de alta para curto posicionamento (reforço) vezes. Como resultado, a plataforma será inicialmente melhorar a produtividade em mais de 30 por cento.

Além disso, um novo sistema de medição de posicionamento posições do palco wafer ainda mais precisão do que nos sistemas atuais. A melhoria de sobreposição resultante de 50 por cento vai ajudar os fabricantes a obter um melhor controle de seu processo para que eles possam produzir mais chips por wafer boa e reduzir ainda mais tamanhos transistor.

"Feature encolher impulsiona a indústria de semicondutores para a frente, permitindo que os chips menores e com maior funcionalidade e menor consumo de energia", diz Martin van den Brink, o vice-presidente ASML executivo de marketing e tecnologia. "Nossos novos sistemas trazer melhorias que irão ajudá-chip de características fabricantes menores de imagem. Melhor posicionamento wafer oferece mais controle e melhor imagem de sobreposição. Em combinação com o aumento da produtividade, o TWINSCAN plataforma NXT abre o caminho para a dupla técnicas de modelação que permitem que fabricantes de chips ao longo do tempo para usar a tecnologia de litografia de imersão existentes para a produção de volume no nó de 32 nanômetros e além. "

Last Update: 10. October 2011 09:04

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