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0,11-Mikron-CMOS Image Sensor Process Technology Erfolgreich durch SMIC Entwickelt

Published on October 23, 2008 at 7:32 PM

Semiconductor Manufacturing International Corporation , einer der führenden Halbleiter-Gießereien in der Welt, gab heute bekannt, dass sie erfolgreich einen 0,11-Mikron-CMOS-Bildsensor (CIS)-Prozess-Technologie entwickelt. Mit dieser neuen Produktion, Ausstellung SMIC hergestellten CIS-Geräte verbesserte Auflösung, geringem Rauschen und verbesserte den Bildkontrast für Hochleistungs-CMOS-Imager-Anwendungen.

SMIC bietet komplette CIS Foundry-Service in China, und seine GUS-0.11um Fähigkeit baut auf seine langjährige Erfahrung auf dem Gebiet, so dass Kunden eine führende Lösung zu wettbewerbsfähigen Kosten und ergänzt sein bestehendes 0,18 und 0.15um CIS-Technologien. Die 0.11um CIS-Technologie, sowohl mit Aluminium und Kupfer-Backend-Metallisierung, für hochintegrierte, mit hoher Dichte CIS-Lösungen, ist ideal für eine breite Palette von Anwendungen, einschließlich Kamera-Handys, Computer Kameras und Industrie-und Sicherheits-und Überwachungseinrichtungen. SMIC hat Pilot-Produktion für die Kunden begonnen, vollen Nutzen aus dieser bewährten Technologie, die auf 200mm und 300mm Wafer hergestellt werden können übernehmen.

Paul Ouyang, SMIC Vice President für Marketing und Vertrieb, sagte: "Mit Hilfe von optimierten Prozessbedingungen, haben wir erfolgreich dunkle Rauschen reduziert, so dass die Leistung bei schlechten Lichtverhältnissen. Diese Funktionen liefern unseren Kunden ein leistungsstarkes Produkt zu einem vernünftigen Preis, das ermöglicht sie ihre Wettbewerbsfähigkeit steigern und gewinnen führende Positionen in einer ständig wachsenden GUS-Markt. "

Last Update: 4. October 2011 08:15

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