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0.11 Sensor de imagen CMOS de Micron Technology proceso desarrollado con éxito por SMIC

Published on October 23, 2008 at 7:32 PM

Semiconductor Manufacturing International Corporation , una de las fundiciones de semiconductores en el mundo, ha anunciado hoy que ha desarrollado con éxito un 0,11 micras Sensor de imagen CMOS (CIS) la tecnología de proceso. Con este nuevo proceso de producción, SMIC de fabricación de dispositivos de la CEI presentan una mejor resolución, bajo ruido y contraste de imagen mejorada para aplicaciones de alto rendimiento de imágenes CMOS.

SMIC ofrece una gama completa de servicios de la CEI de la fundición en China, y su capacidad de 0.11um de la CEI se basa en su amplia experiencia en el campo, dando a los clientes una solución de punta a costos competitivos además de complementar sus tecnologías existentes de la CEI 0.18um y 0.15um. La tecnología CIS 0.11um, disponibles tanto con aluminio y metalización backend cobre, por muy integrados, soluciones de alta densidad de la CEI, es ideal para una amplia gama de aplicaciones, como teléfonos con cámara, cámaras de PC, y dispositivos de seguridad industrial y de vigilancia. SMIC ha comenzado la producción piloto de los clientes a sacar el máximo provecho de esta tecnología probada, que pueden ser fabricados en obleas de 200mm y 300mm.

Pablo Ouyang, vicepresidente SMIC de marketing y ventas, dijo, "Uso de las condiciones más favorables proceso, hemos logrado reducir el ruido oscuro, lo que permite el rendimiento en entornos de poca luz. Estas características proporcionan a nuestros clientes un producto de alto rendimiento a un costo razonable, lo que permite a mejorar su competitividad y ganar posiciones de liderazgo en un mercado cada vez mayor de la CEI ".

Last Update: 4. October 2011 08:15

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