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Technologie De La Transformation de Capteur d'image cmos de 0,11 Microns Avec Succès Développée par SMIC

Published on October 23, 2008 at 7:32 PM

Semiconductor Manufacturing International Corporation, une des principales fonderies de semi-conducteur dans le monde, aujourd'hui annoncée qu'il a avec succès développé une technologie de la transformation de Capteur d'image cmos (CIS) de 0,11 microns. Avec ces procédé de production neuf, document CIS SMIC-manufacturé de dispositifs définition améliorée, faible bruit, et contraste amélioré d'image pour des applications d'encre en poudre de la haute performance CMOS.

SMIC offre le service CIS complet de fonderie en Chine, et ses constructions CIS de la capacité 0.11um sur sa vaste expérience dans le domaine, donnant à des abonnées une solution de bord d'attaque aux coûts compétitifs tout en complétant ses technologies 0.18um et 0.15um CIS existantes. La technologie 0.11um CIS, les disponibles avec l'aluminium et le metalization principal de cuivre, pour les solutions CIS hautement intégrées et à haute densité, est idéale pour un large éventail d'applications, y compris des téléphones appareil-photo, des appareils-photo d'ordinateur, et des dispositifs d'industriel et de contrôle de la sécurité. SMIC a commencé la production pilote pour que les abonnées profitent pleinement de cette technologie prouvée, qui peut être manufacturé sur des disques de 200mm et de 300mm.

Paul Ouyang, le vice président du marketing et les ventes de SMIC ont déclaré, « Utilisant des conditions de traitement optimisées, nous avons avec succès le bruit sombre réduit, activant la performance dans des environnements de faible luminosité. Ces caractéristiques techniques livrent à nos abonnées un produit de haute performance à un coût raisonnable, qui leur permet d'augmenter leur compétitivité et de gagner de principales positions sur un marché CIS toujours croissant. »

Last Update: 17. January 2012 07:42

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