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Tecnologia Della Trasformazione del Sensore di Immagine di CMOS di 0,11 Micron Sviluppata Con Successo da SMIC

Published on October 23, 2008 at 7:32 PM

Semiconductor Manufacturing International Corporation, una delle fonderie principali a semiconduttore nel mondo, oggi annunciata che ha sviluppato con successo una tecnologia della trasformazione del sensore di immagine di CMOS (CIS) di 0,11 micron. Con questo nuovo processo di produzione, la mostra CIS delle unità hanno migliorato la risoluzione, a basso rumore SMIC-fabbricati ed il contrasto migliorato di immagine per le applicazioni del toner di CMOS di rendimento elevato.

SMIC offre il servizio CIS completo della fonderia in Cina e le sue configurazioni CIS della capacità 0.11um sulla sua estesa esperienza di campo, dante a clienti una soluzione del bordo di attacco ai costi non Xerox mentre complementa le sue tecnologie CIS attuali 0.18um e 0.15um. La tecnologia CIS 0.11um, le disponibili con sia alluminio che il metalization posteriore di rame, dato che le soluzioni CIS altamente integrate e ad alta densità, è ideali per una vasta gamma di applicazioni, compreso i telefoni della macchina fotografica, le macchine fotografiche del computer e le unità del monitoraggio della protezione e di industriale. SMIC ha cominciato la produzione pilota affinchè i clienti trar massimo vantaggio da questa tecnologia collaudata, che può essere fabbricato sui wafer di 300mm e di 200mm.

Paul Ouyang, vice presidente di SMIC dell'introduzione sul mercato e le vendite hanno detto, “Facendo Uso delle circostanze trattate ottimizzate, abbiamo diminuito con successo il disturbo scuro, permettendo alla prestazione negli ambienti della scarsa visibilità. Queste funzionalità consegnano ai nostri clienti un prodotto di rendimento elevato ad un costo ragionevole, che li permette di migliorare la loro competitività e di guadagnare le posizioni principali in un servizio CIS sempre crescente.„

Last Update: 17. January 2012 07:27

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