Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

中芯國際 0.11微米CMOS圖像傳感器工藝技術開發成功

Published on October 23, 2008 at 7:32 PM

中芯國際集成電路製造公司 ,在世界上領先的半導體製造商之一,今天宣布,它已成功開發出0.11微米CMOS圖像傳感器(CIS)工藝技術。有了這個新的生產工藝,中芯國際生產的CIS器件表現出更高的分辨率,低噪音,高性能CMOS成像應用的增強圖像對比度。

中芯國際在中國提供完整的CIS代工服務,以及獨聯體 0.11微米的能力的基礎上在該領域的豐富經驗,為客戶提供一個具有競爭力的成本領先優勢的解決方案,同時,補充了其現有的0.18和0.15um CIS技術。該 0.11微米CIS技術,鋁和銅後端金屬化,高度集成,高密度CIS解決方案,是理想的應用範圍很廣,包括拍照手機,電腦攝像頭,以及工業和安全監控設備。中芯國際已開始為客戶提供的試生產,採取充分利用這一成熟的技術,它可以在200mm和300mm晶圓製造。

,中芯國際市場營銷和銷售副總裁歐陽雄說,“利用優化的工藝條件,我們已經成功減少暗噪聲,使在弱光環境下的性能,這些功能在一個合理的成本,這使得我們的客戶提供高性能的產品他們,以提高他們的競爭力,並在不斷增長的獨聯體市場獲得領先地位。“

Last Update: 9. October 2011 17:52

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit