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Tegal船舶深反应离子刻蚀系统,军事医学科学院产品线的收购

Published on November 12, 2008 at 10:20 AM

Tegal公司(纳斯达克股票代码: TGAL),等离子体刻蚀和沉积系统的领先设计者和制造商,今天宣布,该公司已发运在一个Tegal 200SE ICP深反应离子蚀刻(DRIE)系统集成到基板和服务的领先供应商电路和MEMS传感器市场。新Tegal的DRIE系统目前正在安装在客户的150毫米生产代工。

“Tegal是非常高兴能有我们的第一个Tegal 200SE ICP备硅蚀刻系统出货,我们收购阿尔卡特微加工系统(AMMS)在九月的产品线,米卡,Tegal公司总裁兼首席执行官说:”托马斯。 “我们一直很努力,使销售和资格审查过程中,为我们的客户无缝,Tegal的DRIE系统增加了其现有的工具集。事实上,这个客户选择为Tegal,MEMS生产工作多年后,是一个Tegal /军事医学科学院生产验证的性能200SE记录的强烈支持。“

Tegal 200SE系统是一个高密度等离子体刻蚀工具,采用电感耦合等离子体刻蚀反应堆和磁等离子体约束。该工具可以运行Tegal的专利夏普&ndash超高长宽比过程,在生产环境中实现蚀刻功能的纵横比> 100:1。加上其高可靠性,广泛的工艺窗口,和高蚀刻率,Tegal 200SE系统是用于蚀刻硅和SOI衬底的MEMS / MOEMS,光电,生物技术和高电压的市场的关键推动者。

Last Update: 19. October 2011 10:34

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