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Technischer Anwendungs-Manager von Picosun Oy Verteidigte seine Abhandlung auf ALD-Technik

Published on November 18, 2008 at 5:04 AM

Heute zur Finnischen Zeit des Mittages, stellt Kai-Erik Elers, Technischer Anwendungs-Manager des führenden AtomSchicht- (ALD)Absetzungsanlagenherstellers Picosun Oy dar und verteidigt seine Doktorthese „Kupfer-Diffusions-Sperren-Absetzung auf Einheiten der Integrierten Schaltung durch AtomSchicht-Absetzungs-Technik“ an der Abteilung von Chemie der Fähigkeit der Wissenschaft von der Universität von Helsinki.

Elers Abhandlung studiert die Möglichkeit von neuen Diffusionssperrenprozessen für kupfernes Aufdampfen und abnehmende Kenngröße von Einheiten der integrierten Schaltung.

Kupfernes Aufdampfen enthält einen Fluss des völlig neuen Prozesses mit neuen Materialien wie niedrig--K Isolatoren und Ätzungsstoppern, die das Diffusionssperren-Integrationsverlangen stellen. AtomSchicht-Absetzungstechnik ist eine der viel versprechendsten Techniken, zum der kupfernen Diffusionssperre für zukünftige Einheiten abzugeben.

„Motivation für meine Abhandlung basierte auf möglichen Geschäftschancen im Aufdampfenmarkt. Als Ich anfing, an meiner These zu arbeiten, wurde es erwartet, dass die Diffusionssperrenprozesse, die durch die IS-Industrie zu der Zeit verwendet wurden, unzulänglich wurden. Im Jahre 2006 stellte Intel den Gebrauch von der ALD-Methode für Großserienherstellung von Transistoren mit hoch--K Material vor. Offenbar hatte die ALD-Technik seine Stellung in der IS-Produktion festgelegt, die sie einfacher macht, damit neue ALD-Prozesse sich festlegen.“ Kai-Erik Elers sagt.

„Mein Ziel war, einen speziellen Bereich von ALD für mögliche Integration in industrielle Herstellungsverfahren zu studieren. ALD stellt einen durchführbaren Diffusionssperrenprozeß als Alternative zur vorhandenen Wahl der Industrie dar (Körperliche Dampf-Absetzung). Jedoch sind Längenverhältnisanforderungen im kupfernen Aufdampfen mäßig geblieben, das es im Umfang den Gebrauch von der aktuellen Technologie ermöglicht. Zu sehen ist interessant, in, welche Sperren der Anwendung ALD für das kupferne Aufdampfen zuerst verwendet werden,“ Elers sagt.

Abhandlung Kai-Erik Elers kann von http://ethesis.helsinki.fi ferngeladen werden

Am 18. November 2008 Bekannt gegeben

Last Update: 14. January 2012 16:17

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