I Dag på Finlandssvensk tid för middagen, framlägger försvarar Kai-Erik Elers, den Tekniska ApplikationChefen av den ledande Atom- (ALD) producenten Picosun Oy för LagrarAvlagringsystem och hans PhD-te ”Förkopprar Avlagring för DiffusionsBarriär på Inbyggt - gå runt Apparater vid Atom- LagrarAvlagringTeknik” på Avdelningen av Kemi av Fakulteten av Vetenskap av Universitetar av Helsingfors.
Elerss avhandlingstudier som feasibilityen av den nya diffusionsbarriären bearbetar för, förkopprar metallization, och det minskande särdrag storleksanpassar av inbyggt - gå runt apparater.
Förkoppra metallization består av ett helt nytt bearbetar flöde med nya material liksom låga-K isolatorer och etsar proppar, som är danande begära för integration för diffusionsbarriär. Den Atom- LagrarAvlagringtekniken är en av de mest lova teknikerna som ska sättas in, förkopprar diffusionsbarriären för framtida apparater.
”Baserades Motivationen för min avhandling på möjlighetaffärstillfällen i metallizationen marknadsför. Då Jag startade arbetet på mitt te, förväntades det att diffusionsbarriären bearbetar använt av IC-branschen på tiden var passande otillräckligt. I 2006 introducerade Intel bruket av ALD-metoden för kickvolym som var fabriks- av transistorer med den materiella kicken-K. Tydligen hade ALD-tekniken etablerat dess att placera i IC-produktiondanandet som det som är lättare för ny ALD, bearbetar för att upprätta sig.”, Kai-Erik Elers något att säga.
”Var Mitt mål till studie, en som specifikt område av ALD för möjlighetintegration in i industriellt fabriks- bearbetar. ALD föreställer en görlig diffusionsbarriär som är processaa som ett alternativ till det existerande primat av bransch (LäkarundersökningDunstAvlagring). Emellertid har krav för aspektförhållande återstått dämpar förkopprar in metallizationdanande det möjligheten till grad bruket av strömteknologi. Den ska är intressant att se i vilka barriärer för applikationen ALD för förkopprametallizationen ska används först,” Elers något att säga.
DenErik Elers avhandlingen kan nedladdas från http://ethesis.helsinki.fi
Postat November 18th, 2008