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更加進一步新穎的輔助部件加強 PANalytical 的非四周衍射功能

Published on November 24, 2008 at 6:42 PM

現代材料學需求複雜的工具進行調查在被定義的環境和在受控溫度條件下。 非四周 X 光衍射 (XRD)為各種各樣的行業和研究應用被設立。 現在,一個新的血絲擴展名,與 PANalytical 的聯合的 X'Pert 讚成 MPD/HTK 1200N 高溫烤箱房間 (安東 Paar) 系統兼容,擴展此已經強大的組合的功能。 新穎的輔助部件創建 『二在一』反映和傳輸高溫 XRD 系統,進一步加強 PANalytical 的非四周衍射功能。

PANalytical 的唯一稱謂概念允許新的血絲擴展名的無縫集成,變換 HTK 1200N 高溫烤箱房間成傳輸的 XRD 一臺高端血絲加熱器在 25 之間,并且 1000°C. 在標準幾何平面的範例的和這個血絲設置之間的轉換可以在分鐘被執行,无需去除烤箱房間從測向計。 溫度數據被保存以進一步處理的 XRDML 格式使用 PANalytical 的 X'Pert 控制所有評定程序的數據收集裝置軟件。

學習在非四周情況的材料對許多行業和研究領域是重要。 血絲範例 XRD 提供首選取向問題的一個有效解決方法,提供一個容易和迅速方法為得到任意地針對的粉末範例。 統一高溫性能和非常好的控制分析 HTK 1200N。 這,與直接的血絲處理和對準線一起和 1.5 到 88 个 °2 的一個印象深刻的掃描範圍? 意味著此有助組合的應用可能性富啟示性。

對於更多信息,訪問: www.panalytical.com/xpertpro

Last Update: 24. January 2012 04:10

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