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Cambridge NanoTech Kündigt Reihenentwicklung des Führungsteams an

Published on December 1, 2008 at 1:18 AM

Cambridge NanoTech, Weltmarktführer in der AtomSchicht-Absetzungs (ALD)wissenschaft und Gerät für Forschung und Industrie, kündigte heute an, dass es sein Führungsteam mit der Förderung von Dr. Ganesh Sundaram zu Vizepräsidenten der Technologie und zu Roger Coutu zu Vizepräsidenten der Technik erweitert hat. Sind Dr. Sundaram und Herr Coutu mit Cambridge NanoTech seit 2007 gewesen.

In seinem erweiterten Rolle Dr. handhabt Sundaram ALD-Anwendungen und Technologieentwicklung. Angehaltene Stellungen Dr. Sundaram vorher an Veeco Instruments, Schlumberger Technologies, Micrion Corporation und an Texas Instruments. Dr. Sundaram empfing seinen Ph.D in der Physik von der Universität von Oxford, in der er auf niedrige Temperatur sich spezialisierte, hohe Magnetfeldphysik von niedrigen Maßhalbleitern. Seine industrielle Erfahrung gibt das Aufbereiten des Silikons und der Verbindungshalbleiter, der Lithographie, der Partikelträgertechnologie, der Metrologie und der Dünnfilmanwendungen um.

Herr Coutu fährt fort, die Entwicklung von neuen, innovativen und erschwinglichen ALD-Anlagen zu führen. Er handhabt das Technikteam, wie Cambridge NanoTech fortfährt, Forschungs- und ProduktionsALD Lösungen für neue Märkte zu entwickeln. Roger hat die vorhergehenden sechs Jahre beraten mit Firmen im Halbleiter, Automatisierung verbracht, Materialien und Industrien Vakuum-handhabend. Vor der Beratung hielt Roger zahlreiche Technikmanagementstellungen an MKS, an Eaton, an der Nesselkoralle und an Bruce-Technologie International an. Roger hat ein B.S. im Maschinenbau von der Universität von Massachusetts, Lowell.

„Der Zusatz von Ganesh und von Roger ist in unserem schnellen Wachstum in den letzten zwei Jahren instrumentell gewesen,“ sagte Dr. Jill Becker, Gründer von Cambridge NanoTech. „In ihren neuen Rollen der Führung unserer wissenschaftlichen und Technikentwicklungen, Ganesh und Roger setzt unsere Tradition des Entbindens von innovativen von ALD-Lösungen und -anlagen fort, die zufriedenstellen den Bedarf unseres wachsenden Kundenbestands.“

Last Update: 14. January 2012 15:19

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