剑桥纳米技术公司宣布扩大管理团队

Published on December 1, 2008 at 1:18 AM

剑桥纳米技术 ,在原子层沉积(ALD)的科学和设备的研究和产业的世界领导者,今天宣布,它已扩大其领导团队与促进Ganesh神孙达拉姆博士技术和罗杰Coutu的副总裁,工程副总裁。自2007年以来,博士孙达拉姆Coutu先生已与剑桥纳米技术。

博士孙达拉姆在他发挥更大的作用,会管理的ALD应用和技术发展。孙达拉姆博士曾担任威科仪器,斯伦贝谢技术,Micrion公司和德州仪器公司的立场。物理学博士孙达拉姆收到来自牛津大学,在那里他专门在低温,高磁场低维半导体物理博士学位。其工业的经验,包括处理硅和化合物半导体,光刻,粒子束技术,计量,和薄膜应用。

Coutu先生将继续领导新的,创新性和可负担得起的醛固酮系统的发展。他将负责管理的工程团队,剑桥纳米技术的不断发展新兴市场的研究和生产ALD的解决方案。罗杰已经度过了过去六年的咨询公司在半导体,自动化,材料和真空处理业。罗杰咨询之前,举行了无数的MKS,伊顿公司,微孔,和布鲁斯科技国际工程管理职位。罗杰在马萨诸塞州洛厄尔大学,机械工程学士学位。

“Ganesh神和罗杰此外,我们在过去两年的快速增长,说:”吉尔贝克尔博士,剑桥纳米技术的创始人。 “在领导我们的科学和工程的发展新的角色,Ganesh神和罗杰将继续我们的传统,提供创新的ALD解决方案和系统,以满足我们日益增长的客户群的需求。”

Last Update: 4. October 2011 08:52

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