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Posted in | Nanoenergy | Nanofabrication

Oxford Instruments Plasmatechnik gewinnt Auftrag von einem führenden HB-LEDs Hersteller

Published on December 1, 2008 at 7:27 PM

Oxford Instruments Plasmatechnik (OIPT) freut sich bekanntzugeben, dass es vor kurzem einen Auftrag von einem führenden Hersteller von HB-LEDs gewann drei Plasmalab ® System133 ICP380 Plasmaätzen Tools für den Einsatz in High-Brightness-LED (HB-LED) Fertigung. Dieser Auftrag ist der erste einer möglichen insgesamt bis zu fünfzehn-Systeme von diesem wichtigen asiatischen HB-LED-Hersteller, die über die nächsten 12 Monate erforderlich sein kann, und bestätigt OIPT seine Position als einer der Hauptlieferanten in den HB-LED-Markt.

Plasmalab ® System133 ICP380 Plasmaätzen Werkzeug

Dieser Auftrag kommt auch auf, was hat sich ein sehr erfolgreicher Monat für OIPT mit Bestellungen für mehr als 20 Systeme gelegt. Dadurch Oktober vierthöchste um Monat in der Geschichte des Unternehmens, die Konsolidierung eine äußerst erfolgreiche 12 Monate, die bereits gesehen hat, der ersten und zweiten Ranges Monate.

Mark Vosloo, Sales Director für Oxford Instruments Plasmatechnik klar ist mit diesem Ergebnis sehr zufrieden: "Die Kombination aus einem hoch motivierten, erfahrenen und kompetenten Sales-Team, Verkauf ausgezeichneten Systeme und Prozesskompetenz, bedeutet, dass OIPT konnte weiterhin sehr wettbewerbsfähig und erhöhen ihrer Auftragslage, auch bei solchen schwierigen Zeiten. OIPT der Lage ist, seine Fähigkeiten nutzen, um neuere Märkte wie Photovoltaik und LED-Beleuchtung, in denen unsere führenden Technologien sind in der steigenden Nachfrage und unsere breite Palette von Produkten wie Plasma-Ätz-und Ablagerung geben, Atomic Layer Deposition-und Ionenstrahl-Ätzen und Abscheiden zu unserem Erfolg beitragen. "

Oxford Instruments Plasma Technology ist ein führender Anbieter von flexiblen Prozess-Tools und leadingedge Prozesse für das Engineering von nanoskaligen Strukturen und Geräten, basierend auf Kerntechnologien in Plasma-unterstützte Abscheidung und Etch Ionenstrahl-Deposition und Etch Atomic Layer Deposition (ALD ) und Hydrid-Gasphasenepitaxie (HVPE).

Last Update: 4. October 2011 08:53

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