Posted in | Nanoenergy | Nanofabrication

Oxford Instruments Plasma technologie wint Bestel Van een toonaangevende HB-LED's Fabrikant

Published on December 1, 2008 at 7:27 PM

Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) is verheugd aan te kondigen dat zij onlangs heeft een order gewonnen uit een toonaangevende fabrikant van HB-LED's voor drie Plasmalab ® System133 ICP380 plasma-etsen tools voor gebruik in High Brightness LED (HB-LED) productie. Deze volgorde is de eerste van een totaal van maximaal vijftien systemen van deze belangrijke Aziatische HB-LED-fabrikant die nodig kunnen zijn in de komende 12 maanden, en valideert OIPT's positie als een belangrijke leverancier in de HB-LED markt.

Plasmalab ® System133 ICP380 plasma-etsen gereedschap

Deze volgorde komt ook op de top van wat heeft bewezen een zeer succesvolle maand voor OIPT met bestellingen voor meer dan 20 systemen. Dit maakt oktober de vierde hoogste orde maand in de geschiedenis van het bedrijf, de consolidatie van een uiterst succesvolle 12 maanden, welke al heeft gezien de eerste en de tweede hoogste orde maand.

Mark Vosloo, Sales Director voor Oxford Instruments Plasma-technologie is duidelijk blij met dit resultaat, "De combinatie van een zeer gemotiveerde, ervaren en bekwaam verkoopteam, de verkoop van uitstekende systemen en proces-mogelijkheden, betekent dat OIPT heeft kunnen blijven zeer concurrerend en meer de bestelling niveaus, zelfs tijdens deze uitdagende tijden. OIPT is in staat om zijn capaciteiten te gebruiken om nieuwe markten zoals fotovoltaïsche zonne-energie en LED-verlichting, waar onze toonaangevende technologieën zijn in toenemende vraag en ons breed scala van producten, zoals plasma-etsen en depositie te voeren, atomic layer deposition en ionenbundel etsen en depositie bijdragen aan ons succes. "

Oxford Instruments Plasma Technology is een toonaangevende leverancier van flexibel proces tools en leadingedge processen voor de engineering van nano-schaal structuren en apparaten, gebaseerd op de core-technologieën in de plasma-geassisteerde depositie en etsen, ion-beam depositie en etsen, atomic layer deposition (ALD ) en hydride dampfase epitaxie (HVPE).

Last Update: 4. October 2011 08:53

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit