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Impresiones molecular anuncia la siguiente fase de su curso S-FIL adopción y la Campaña de Educación

Published on December 10, 2008 at 10:16 PM

Impresiones molecular, Inc. , un líder de mercado y la tecnología para los sistemas de nanoestampación y soluciones, ha anunciado hoy la próxima fase de su curso S-FIL ® (Paso y Flash ® impresión litográfica) la adopción y la campaña de educación. La compañía se basará en varios éxitos notables conseguidos en 2008, como la campaña de S-FIL abre el camino tanto para los semiconductores y la unidad de disco duro (HDD) a las industrias a la transición a esta forma avanzada de la litografía por nanoimpresión. Impresiones molecular también ampliará sus esfuerzos en el diodo emisor de luz (LED) del mercado.

Entre los principales logros de la campaña en 2008 fue la normalización de continuar por la industria del disco duro en el S-FIL tecnología, con el número de pedidos por las compañías de discos duros de los sistemas S-FIL, alcanzando un total de 10, seis de los cuales se han distribuido. En la industria de semiconductores, SEMATECH aceptado la entrega de un nuevo sistema de Imprio 300 y la instalación completa y la aceptación formal en un registro de 68 días. El consorcio líder en la industria se caracteriza S-FIL para la fabricación de volumen en el nodo de 32 nm y por debajo.

"En 2008, Impresiones molecular 'S-FIL solución solidificado su posición como la tecnología de litografía de la elección de patrones de producción de medios en la industria del disco duro, mientras que en la industria de semiconductores S-FIL se convirtió en un candidato favorito para el uso en 32 nm y por debajo de volumen de producción de memoria no volátil ", dijo Mark Melliar-Smith, director general de Impresiones molecular. "El movimiento hacia la fabricación de semiconductores se puso de manifiesto no sólo mediante acciones concretas, tales como la inversión de SEMATECH desarrollar S-FIL para la fabricación, sino también por las encuestas de la industria de organizaciones tales como Wright, Williams y Kelly que se encuentra el número de participantes de la industria esperan para ver la impresión litográfica en la producción entre 2010 y 2012 ha aumentado más del 50 por ciento y, en particular, por delante de la UVE. Como los fabricantes a entender mejor la resolución de alto y de bajo costo de propiedad de las ventajas de S-FIL, el impulso de la adopción se acelera. Con esto en mente, mejorará aún más nuestra S-FIL campaña en el 2009. "

Como Impresiones molecular intensificado sus esfuerzos de educación en el S-FIL en 2008, el interés en esta tecnología avanzada nanoestampación se levantó y siguió las órdenes del sistema. Como parte de sus actividades de educación para el año 2009, Impresiones molecular, participará en varias ferias de la industria y conferencias importantes, incluidas las estrategias en la Conferencia de la Luz, la Conferencia SPIE litografía avanzada, SEMICON West y EE.UU. DISKCON.

Estas apariciones seguir los exitosos esfuerzos de la compañía alcance en 2008 que incluyó la entrega de la conferencia de apertura sobre las tendencias de la litografía en DISCKON EE.UU., así como dar una dirección de invitados a la Micro y Nano Ingeniería (MNE) de la conferencia. Impresiones molecular se basará en su educación y divulgación en todos estos eventos mediante la ampliación de su participación en ponencias, artículos técnicos y presentaciones orales, incluyendo los resultados de los esfuerzos con los socios que están validando S-FIL para aplicaciones de producción. Además de los esfuerzos de la educación, la campaña se concentrará mayor atención en 2009 sobre la mejora de la infraestructura de S-FIL para apoyar a los clientes que se acercan más al volumen de producción en la próxima generación de dispositivos de memoria de estado sólido y el disco duro y sistemas.

Más allá de nuevas asociaciones, las órdenes del sistema y las apariencias caso, Impresiones molecular 'S-FIL campaña en el año 2008 se caracterizó por varios logros importantes, incluyendo la introducción de la Imprio 300 para la industria de los semiconductores y la HD2200 Imprio para la industria del disco duro. Dio a conocer en febrero de 2008, el Imprio 300 representa la más alta resolución más baja, el costo de la propiedad de la solución de prototipos nanoestampación IC y el desarrollo del proceso en el nodo de 32 nm y por debajo. La HD2200 Imprio, que se presentó tres meses después, es el sistema de nanoestampación sólo para permitir el desarrollo y la producción piloto de los medios de comunicación patrón de doble cara. En reconocimiento de las ventajas de la S-FIL para modelado medios de comunicación, que se ofrecen en la HD2200 Imprio, Impresiones molecular también recibió los EE.UU. DISKCON Best in Show Award para el mejor uso de las nuevas tecnologías.

Last Update: 7. October 2011 02:13

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