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As Impressões Moleculars Anunciam a Próxima Fase de sua Campanha Em Curso da Adopção e de Educação de S-FIL

Published on December 10, 2008 at 10:16 PM

Molecular Impressões, Inc., um líder do mercado e da tecnologia para sistemas e soluções nanopatterning, anunciaram hoje a próxima fase de sua campanha em curso da adopção e de educação de S-FIL® (a Etapa e Flash® Imprimem a Litografia). A empresa construirá em diversos sucessos notáveis conseguidos em 2008, como a campanha de S-FIL pavimenta a maneira para as indústrias da movimentação do semicondutor e (HDD) de disco rígido à transição a este formulário avançado da litografia do nanoimprint. As Impressões Moleculars igualmente expandirão seus esforços no mercado do diodo (LED) luminescente.

Entre a campanha as realizações chaves em 2008 eram a normalização de continuação pela indústria de HDD na tecnologia de S-FIL, com o número de pedidos por empresas de HDD para os sistemas de S-FIL que alcançam um total de 10, seis de que enviaram. Na indústria do semicondutor, SEMATECH aceitou a entrega de um sistema novo de Imprio 300 e terminou a instalação e a aceitação formal em um registro 68 dias. O consórcio líder de mercado estará caracterizando S-FIL para a fabricação do volume no nó 32nm e abaixo.

“Em 2008, a solução do S-FIL das Impressões Moleculars mais adicional solidificou sua posição como a tecnologia da litografia da escolha para a produção modelada dos media na indústria da movimentação de disco rígido, quando na indústria S-FIL do semicondutor se tornou um candidato favorecido para o uso em 32nm e abaixo da produção da memória permanente do volume,” disse Mark Melliar-Smith, CEO de Impressões Moleculars. “O movimento para a fabricação do semicondutor foi evidenciado não somente por acções concretas, tais como o investimento de SEMATECH desenvolver S-FIL para fabricar, mas igualmente por avaliações da indústria das organizações tais como Wright, Williams & Kelly que encontrou que o número de participantes da indústria que esperam considerar a litografia da impressão em uma produção entre 2010 e 2012 saltou sobre 50 por cento e notàvel, antes de EUV. Porque os fabricantes melhores compreendem a alta resolução, as vantagens da baixo-custo--posse de S-FIL, o impulso para a adopção aceleram. Com isto em mente nós aumentaremos mais nossa campanha de S-FIL em 2009.”

Como Impressões Moleculars esforços intensificados da educação em S-FIL em 2008, interesse neste tecnologia nanopatterning avançada cor-de-rosa e pedidos do sistema seguidos. Como parte de suas actividades de educação para 2009, as Impressões Moleculars participarão em diversos tradeshows e conferências da indústria chave, incluindo as Estratégias na Conferência Clara, na Conferência Avançada SPIE da Litografia, no Oeste de SEMICON e no DISKCON EUA.

Estas aparências seguem os esforços bem sucedidos do outreach da empresa em 2008 que incluído entregar o endereço de abertura na litografia tende em DISCKON EUA, assim como dá um endereço convidado na Micro & conferência Nano (MNE) da Engenharia. As Impressões Moleculars construirão em seu outreach da educação de todo destes eventos expandindo sua participação em papéis da conferência, artigos técnicos e apresentações orais, incluindo resultados dos esforços com sócios que estão validando S-FIL para aplicações de produção. Além do que esforços da educação, a campanha aumentará seu foco em 2009 em aumentar a infra-estrutura de S-FIL aos clientes do apoio como se movem mais perto da produção de volume na próxima geração de circuito integrado e os dispositivos e os sistemas de memória do disco duro.

Além das parcerias novas, os pedidos do sistema e as aparências do evento, campanha do S-FIL das Impressões Moleculars em 2008 foram caracterizados por diversas realizações do marco, incluindo a introdução do Imprio 300 para a indústria do semicondutor e do Imprio HD2200 para a indústria de HDD. Revelado em fevereiro de 2008, o Imprio 300 representa a solução nanopatterning da custo--posse a mais de alta resolução, mais baixa para a prototipificação do IC e a revelação de processo no nó 32nm e abaixo. O Imprio HD2200, que foi introduzido três meses mais tarde, é o único sistema nanopatterning para permitir a revelação e a produção do piloto de media frente e verso do teste padrão. No reconhecimento das vantagens de S-FIL para os media modelados, que são oferecidos no Imprio HD2200, as Impressões Moleculars igualmente receberam o DISKCON EUA Melhor na concessão da Mostra para o melhor uso de uma nova tecnologia.

Last Update: 14. January 2012 12:11

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