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L'Officier En Chef de Technologie des Matériaux Appliqués A Attribué 2008 Prestigieux J.J. Ebers Award

Published on December 15, 2008 at 10:09 PM

La Société de Dispositifs d'Électron d'IEEE a aujourd'hui honoré M. Mark Pinto, officier en chef de technologie d'Applied Materials, Inc., de sa récompense prestigieuse de 2008 J.J. Ebers, qui est considérée l'un des honneurs les plus élevés de la communauté technique. M. Pinto a été présenté avec la récompense aux 2008 Dispositifs d'Électron Internationaux Se Réunissant (IEDM) à San Francisco dans le respect de « ses cotisations aux outils largement appliqués de simulation de technologie des semiconducteurs. »

M. Pinto a obtenu son Ph.D. d'Université de Stanford en 1985, où il a codéveloppé simulateur PISCES-II de dispositif du premier usage universel le 2D. Ce simulateur de dispositif est devenu l'industriellement compatible pendant plus de 10 années et a formé la base des simulateurs de CIP toujours utilisés aujourd'hui. Lui ont alors joint des Laboratoires Bell et ont abouti des efforts pour développer beaucoup de modèles de calcul de activation et les algorithmes qui ont été largement mis en application pour des phénomènes de compréhension et de prévision au-dessus d'une large gamme d'applications, y compris le silicium, les matériaux d'III-V, et l'optoélectronique. Par son travail de activation, la simulation de technologie est devenue un outil principal étant à la base de beaucoup de rétablissements de technologie des semiconducteurs.

M. Pinto est actuel un vice-président principal aux Matériaux Appliqués où il sert de directeur général de l'Énergie et du Groupe Environnemental de Solutions, en plus de son rôle comme CTO. En tant qu'élément de ses efforts pour étendre les technologies nanomanufacturing de la Compagnie, il a abouti l'établissement des affaires solaires rapidement croissantes Appliquées, qui ont été récent honorées de la Récompense 2008 de l'Innovation Technologique du Wall Street Journal pour sa Ligne de Film Mince de SunFab™.

La récompense de J.J. Ebers, déterminée en 1971, est destinée pour stimuler le progrès dans des dispositifs d'électron et pour commémorer Jewell James Ebers, dont les cotisations ont formé la compréhension et la technologie des dispositifs d'électron. La récompense annuellement identifie et honore des exécutions du mérite inhabituel dans le domaine de dispositif d'électron et est donnée pour les cotisations techniques en suspens aux dispositifs d'électron. Les lauréats Précédents incluent Herbert Kroemer, Verger d'Andrew et Simon Sze.

Last Update: 17. January 2012 06:52

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