Carl Zeiss Empfängt PRÜFEN Ordnung von Samsung Electronics

Published on January 8, 2009 at 6:09 AM

Carl Zeiss SMT hat die folgende Ordnung für ihre Fotomasken-Registrierung empfangen und Metrologie-Anlage PROVE™ von Samsung Electronics, der Koreanische Integrierte Einheits-Hersteller Überlagerte. Der Auftrag wurde nacheinander nach einer neuen Ordnung vom führenden Eträger Masken-Verfasserlieferanten NuFlare vergeben.

„In Betracht der aktuellen Marktlage, diese ist ein bemerkenswerter Erfolg. Diese Ordnungen bestätigen offenbar, dass PROVE™ mit seinen Darstellungsoptik der hohen Auflösung 193nm eine aktivierende Technologie für Maskenherstellung am Knotenpunkt 32nm und jenseits ist. Für strategisch Betreiber unabhängig davon, ob sie Maskenverfasserhersteller sind, IDM oder Maskensysteme gibt es keine Alternative aber, mit ZEISS-Registrierungstechnologie zu arbeiten, wenn sie ihre aggressiven Straßenkarten treffen und überschreiten möchten.“ Zustände Dr. Oliver Kienzle, Vorstandsmitglied an der Halbleiter-Metrologie-Anlagenabteilung Carl Zeisss SMTs (SMS).

Die neue Metrologieanlage PROVE™ wurde von einem Team von mehr als 40 Ingenieuren Carl Zeisss SMT entwickelt und wird durch SEMATECH unterstützt.

Last Update: 14. January 2012 13:55

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