Tegal Recibe la Orden para el Esfuerzo EN la Mejora de la Herramienta del Atado de PVD de Fabricante de Componentes Importante de la Administración de la Potencia

Published on January 15, 2009 at 5:46 PM

Tegal Corporation (Nasdaq: TGAL), un proyectista de cabeza y un fabricante de grabado de pistas del plasma y sistemas de la deposición usados en la producción de semiconductor de la potencia, de MEMS, y de dispositivos optoelectrónicos, anunciados hoy que la Compañía recibió una orden para un Esfuerzo EN la mejora de la herramienta del atado de PVD de un fabricante global de cabeza de componentes de la administración de la potencia para las comunicaciones, los productos electrónicos de consumo, y los mercados industriales. El Esfuerzo EN la mejora del sistema de PVD expidirá en el primer trimestre de CY2009, y será utilizado por el cliente de Tegal para desplegar la habitación de las aplicaciones finas de la metalización de la parte trasera de la oblea de silicio ahora que se ejecutan en la producción de volumen en el cliente nacional, fulminante ISO-certificado fabuloso.

De “la experiencia acertada con el fulminante superior que manipulaba, adherencia de la producción Nuestro cliente de la película, y las capacidades eutécticas de la creación de la película del Esfuerzo EN el sistema de PVD en aplicaciones finas de la metalización de la parte trasera del fulminante dieron lugar a esta orden de la mejora de la herramienta, y estamos satisfechos haber ganado este asunto de la repetición,” dijo a Paul Werbaneth, Vicepresidente - Marketing, Tegal Corporation. “Una Vez Que su Esfuerzo EN la herramienta release/versión en la producción de volumen, nuestro cliente vio ventajas comerciales demostrables resultando de los procesos de la S-Pistola PVD que se ejecutaban en el Esfuerzo EN, y, como consecuencia, ahora ha decidido aumentar su herramienta del Esfuerzo para desplegar las capacidades del proceso y de la producción del sistema.”

El Esfuerzo de Tegal EN el sistema es una herramienta del atado del vacío avanzado, ultraalto PVD usada en fabs de la producción para depositar las películas de la pureza constante, elevada, con ciclón a los valores cero de la tensión, en un ambiente de proceso extremadamente limpio. Las películas Inferiores de la tensión se utilizan extensamente en la metalización de la parte trasera para la potencia y los dispositivos discretos, las aplicaciones de la metalización del bajo-topetón, el empaquetado avance, los diodos electroluminosos de la alto-brillantez (Hb-LED), y en crear los dispositivos electroacústicos para las aplicaciones de BAW, de FBAR, y del RF MEMS. El Esfuerzo EN tiene una comunicación fácil de usar del GUI, de SECS/GEM, el fulminante seguro del inferior-contacto que manipula, y capacidad flexible de la dimensión de una variable y de la talla del fulminante, que hacen el ideal de la herramienta del Esfuerzo para los ambientes de producción ultra-limpios para las aplicaciones de la delantero-cara y de la parte trasera. Los módulos libres de daños Opcionales del suave-grabado de pistas, y las configuraciones de una variedad de magnetrón de DC, de la CA, y del RF, están disponibles para chisporrotear los muchos diverso dieléctrico y las películas conductoras usados en el semiconductor, el MEMS, y la otra producción del dispositivo electrónico.

Last Update: 17. January 2012 04:56

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