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Posted in | Nanolithography

SUSS MicroTec presenta ACS300 di seconda generazione per la verniciatura, forno e Sviluppo di wafer fino a 300 mm

Published on January 19, 2009 at 11:13 PM

A Semicon Corea 2009, SUSS MicroTec (FWB: SMH) (GER: SMH) ha presentato la seconda generazione della sua ACS300, un sistema modulare per il rivestimento, la cottura e lo sviluppo di wafer fino a 300 mm. L'ACS300 Gen2 offre una flessibilità senza pari configurazione al leader di mercato, costi di gestione.

Facciata ACS300 Gen2 cappotto modulare / cuocere / sviluppo del sistema da SUSS MicroTec (Photo: Business Wire)

L'architettura del sistema e moduli di processo sono specificamente adattati alle esigenze del packaging avanzato e dell'industria integrazione 3D, che richiede una foto molto spessi strati di resistere fino a 100 micron e di più. Unisce in modo ottimale cappotto di classe e sviluppare l'uniformità con prestazioni eccezionali bordo tallone rende l'ACS300 Gen2 la soluzione preferita per le applicazioni di girare varie speciale rivestimento in polimeri quali fotosensibile, come poliammide, PBO o Cyclotene ™ (BCB).

L'ACS300 Gen2 continua il successo del modello precedente, con gli sviluppi di guida ACS300Plus costo attrezzature verso il basso, estendendo l'efficienza globale degli impianti e ridimensionamento del footprint.

"Affrontare i requisiti specifici per l'imballaggio a livello di wafer e di integrazione 3D il nuovo ACS300 è dotato di caratteristiche specifiche di confezionamento diversi, il che lo rende particolarmente adatto per applicazioni come saldare urti, oro, urti o strati redistribuzione", ha detto Rolf Wolf, Direttore Generale di SUSS MicroTec Litografia Divisione. "L'ACS300 prossima generazione sarà definitivamente aiutare SUSS MicroTec di continuare e potenziare la propria posizione di leader di mercato nel settore del packaging avanzato, e si estende in elaborazione 3D".

Inviato 20 gennaio. 2009

Last Update: 22. October 2011 00:17

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