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Picosun Oy und Vaisala Oyj Gemeinsam für die Integration von ALD-Prozess zu High Volume Manufacturing

Published on January 29, 2009 at 5:59 PM

Führende Atomic Layer Deposition (ALD) Systeme Hersteller Picosun Oy , Finnland und Vaisala Oyj, Finnland ansässige Weltmarktführer im meteorologischen Messungen Technologie hat heute bekannt gegeben, dass seit 2006 haben sie gemeinsam für die Integration von ALD-Verfahren zur Produktion hoher Stückzahlen (HVM) gearbeitet. Vaisala wurde mit Picosun SUNALE ™ P-Serie Reaktor seit Ende 2006 und begann seine Verwendung in HVM im Frühsommer des Jahres 2007.

Vaisala, weltweiter Marktführer in vielen seiner Kerngeschäfte, entwickelt, produziert und vertreibt Produkte und Dienstleistungen für den Umweltschutz und die industrielle Messtechnik. Die wichtigsten Kundengruppen von Vaisala sind meteorologische und hydrologische Institute, Luftfahrt-Organisationen, Streitkräfte, Straße und Schiene Organisationen, wetterbedingte privaten Sektor, Systemintegratoren und Industrie weltweit.

"Wir sind sehr stolz darauf, dass Vaisala hat Picosun als ALD-Tool-Anbieter gewählt. Wir sind mehr als glücklich, die außergewöhnlichen Ergebnisse, die sie in der Lage, seit 2006 zu sammeln haben bekannt zu geben. Die ALD Prozess-Performance in hohen Stückzahlen herstellen, einschließlich Filmgleichmäßigkeit, Partikel und Wiederholbarkeit, hat immer wieder die Erwartungen erfüllt. Unsere Zusammenarbeit mit Vaisala wird, um neue Ergebnisse bei der Umsetzung der ALD in der Produktion führen, und eine weitere Stärkung der Marktposition unserer SUNALE ™ ALD-Prozess Produktions-Tools ", sagt Juha Kostamo, Managing Director von Picosun Oy.

"Wir haben zufrieden mit dem Ergebnis kam bei Picosun der ALD-Reaktor. Für uns einfache Wartung, Verwendung von handelsüblichen Standard-Teile, Batch-Prozess-Fähigkeit und hohe Zuverlässigkeit wichtiger waren, als wir unsere ALD Produktions-Tool entschieden", so Dr. Antti Rahtu, Manufacturing Manager von Vaisala Oyj.

Last Update: 3. October 2011 15:01

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