Picosun Oy ja Vaisala Oyj toimivat yhdessä integrointi ALD suurelle Manufacturing

Published on January 29, 2009 at 5:59 PM

Johtava Atomic Layer Deposition (ALD)-järjestelmien valmistaja Picosun Oy , Suomi, ja Vaisala Oyj, Suomi-pohjainen maailmanlaajuinen markkinajohtaja meteorologisia mittauksia Technology ilmoitti tänään, että vuodesta 2006 he ovat työskennelleet yhdessä integrointi ALD suurelle valmistus (HVM). Vaisala on käyttänyt Picosun SUNALE ™ P-sarjan reaktori vuoden 2006 lopusta lähtien ja aloitti sen käytön HVM alkukesästä 2007.

Vaisala, maailman markkinajohtaja monilla tärkeillä yrityksiä, kehittää, valmistaa ja markkinoi tuotteita ja palveluja ympäristön ja teollisuuden mittaustarpeisiin. Suurimmat asiakasryhmät Vaisalan ovat ilmatieteen ja hydrologian laitoksille, ilmailu järjestöt, puolustusvoimat, tie-ja rautatieliikenteen organisaatiot, säähän liittyviä yksityisen sektorin, järjestelmäintegraattoreille ja maailmanlaajuisesti.

"Olemme erittäin ylpeitä siitä, että Vaisala valitsi Picosun heidän ALD työkalu tarjoaja. Olemme enemmän kuin iloinen voidessani ilmoittaa erinomaisia ​​tuloksia he ovat voineet kerätä vuodesta 2006. ALD hyvällä volyymivalmistus, mukaan lukien elokuva yhdenmukaisuus, hiukkasten ja toistettavuus, on johdonmukaisesti täyttänyt odotuksia. Yhteistyömme Vaisala johtaa uusiin tuloksiin täytäntöönpanon ALD tuotannossa, ja edelleen vahvistaa markkina-asemaa meidän SUNALE ™ ALD tuotannon työkalut ", sanoo toimitusjohtaja Juhana Kostamo Picosunin Oy.

"Olemme olleet tyytyväisiä tuloksiin sai kanssa Picosunin ALD-reaktori. Meille on helppo huoltaa, kaupallisen vakio-osia, panosprosessi valmiudet ja hyvä luotettavuus olivat tärkeitä, kun päätimme meidän ALD tuotannon väline", sanoo tohtori Antti Rahtu, Manufacturing Manager Vaisala Oyj.

Last Update: 15. October 2011 13:51

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit