Процессы Низложения Слоя Дистанционной Плазмы (ALD) Атомные и Термальное ALD С Инструментом Низложения Слоя FlexALTM (ALD) Атомным От Аппаратур Оксфорда

Покрытые Темы

Предпосылка

Уникально преимущества системы

Процессы

Вид продукции

Предпосылка

Совокупность продуктов FlexAL Аппаратур Оксфорда' обеспечивает новый ряд гибкости и возможности в инженерстве структур и приборов nanoscale путем предлагать дистанционной плазме Атомные процессы Низложения (ALD) Слоя и термальное ALD внутри одиночная система для того чтобы поставить:

•        Максимальная гибкость в выборе материала и прекурсоры

•        Низкотемпературные процессы позволенные плазмой ALD

•        Низкое повреждение поддерживаемое при помощи дистанционной плазмы

•        Controllable, repeatable процессы через рецепт-управляемый интерфейс ПО

Уникально преимущества системы

•        Способность отрегулировать от малой вафли соединяет до польностью вафли 200 mm

•        Нагрузк-Locked вход вафли на безопасность, низкий подсчет количества частиц и короткое время нагрузк-к-процесс-старта

•        Уникально средство доставки прекурсора предлагая точный контроль температуры прекурсора с вентилятор-помогать печью и оптимизированными heated линиями нагнетания

•        Объединенный бардачок на модулях прекурсора для в-situ перестроения

•        Объединенные порты для того чтобы позволить добавлению в-situ ellipsometry инструментов измерения.

•        Пригонки в компактном космосе меньш чем 2 x 2 m даже с максимальным числом модулей прекурсора

•        May быть интегрировано в системе группы с другими отростчатыми инструментами, включая ряд Аппаратур Plasmalab®System100 Оксфорда инструментов etch и низложения

•        Подперто сбываниями Аппаратур Оксфорда глобальный и сетью поддержки; при технология платформы основанная на популярном инструменте процесса PlasmalabSystem100, совокупность продуктов FlexAL помогает от доказанной надежности внутри над 300 установленными системами всемирно

•        Превращено в консультации c ведущими Атомными специалистами Низложения (ALD) Слоя в Европе, Корее и США

•        Лицензированная технология от ASM Международного NV

Процессы

Стандартные процессы доступные на системах FlexAL включают:

•        Процесс23 плазмы AlO дистанционный - вниз к низложению комнатной температуры

•        Процесс2 плазмы HfO высокий-k диэлектрический дистанционный

•        Процесс2 восходящего потока теплого воздуха ALD HfO высокий-k диэлектрический

•        Процесс плазмы олова дистанционный

Вид продукции

Совокупность продуктов FlexAL ALD состоит из:

•        FlexALRP предлагая дистанционную плазму ALD

•        Плазма FlexALRPT предлагая и дистанционная и термальное ALD в одиночной системе для того чтобы обеспечить широкий выбор прекурсоров и процессов

•        FlexALRPX предлагая широкийа ассортимент вариантов прекурсора как в пределах дистанционной плазмы, так и в пределах термального ALD, имеющ максимальное число модулей поставки прекурсора и температур низложения до ºC 700

AZoNano - A к Z Нанотехнологии - Конформное покрытие Олова Низложением Слоя дистанционной плазмы Атомным

Диаграмма 1. Конформное покрытие Олова Низложением Слоя дистанционной плазмы Атомным (ALD)

AZoNano - A к Z Нанотехнологии - система FlexAL ALD

Диаграмма 2. система FlexAL ALD

Источник: Аппаратуры Оксфорда

Для больше информации на этом источнике пожалуйста посетите Аппаратуры Оксфорда

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit