Sistema Atómico de la Deposición de la Capa de Cambridge NanoTech Fiji F200

La serie de Cambridge NanoTech Fiji F200 es nuestro sistema más avanzado de la investigación y desarrollo de ALD. La Fiji es un sistema de alto vacío modular de ALD que acomoda una amplia gama de modos de la deposición usando una configuración de sistema flexible y configuraciones múltiples de precursores y de gases del plasma. El resultado es una plataforma de la nueva generación ALD capaz de hacer la deposición térmica así como plasma-aumentada.

Cambridge NanoTech ha combinado su experiencia de cabeza de ALD con análisis De Cómputo avanzados de la Dinámica de Fluidos para optimizar el reactor de Fiji F200 ALD, el calefactor y la geometría del desvío. La geometría del reactor del hyperboloid combinada con el calefactor del substrato del paraboloide crea un precursor laminar y un flujo radical generado plasma alejada. Este tipo de diseño que usted puede conseguir solamente de expertos bien informados de ALD, optimiza uniformidad de la deposición y disminuye la duración de ciclo y el uso del precursor.

La Fiji 200 viene en varias diversas configuraciones incluyendo el Bloqueo Doble del Compartimiento y de la Carga. Cada compartimiento se puede configurar con hasta seis líneas del precursor del calefactor y 5 líneas de gas del plasma, ofreciendo la adaptabilidad experimental más grande de una huella compacta. Por Favor conozcamos cuáles son sus necesidades de ALD y podemos configurar un sistema de Fiji que correcto para usted.

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