Descripteurs d'Eulitha Nanoimprint

Des descripteurs du nanoimprint d'Eulitha sont fabriqués avec le faisceau d'électrons ou sa seule technologie de lithographie d'EUV. Les descripteurs Normaux comprennent 35 grilles linéaires de moitié-hauteur de son de nanomètre et 53 alignements de point de moitié-hauteur de son de nanomètre, qui sont effectués avec grâce exceptionnelle de qualité à la capacité d'exposition d'EUV. Des descripteurs Faits Sur Commande sont effectués selon des spécifications du client avec le choix de technologie le plus adapté : La technologie d'EUV active la production des structures périodiques à haute résolution (sub-100nm) au-dessus des vastes zones attendu que l'e-poutre est utilisée pour effectuer les configurations arbitraires.

Les Applications des descripteurs d'Eulitha comprennent le développement et la vérification de processus, les nano-blocs optiques, les substrats de SERS, les supports magnétiques modelés, l'étalonnage de microscope, la nano-électronique et en kit templated. Contactez-nous avec vos besoins de conseil d'expert de notre personnel scientifique de renommée mondiale.

Fonctionnalités clé :

  • Définition vers le bas à 20 nanomètre
  • couche d'Anti-Adhérence (optionnelle)
  • Temps d'exécution Rapide de 4-6 semaines
  • Combinaisons de Zone/définition (par exemple 35 nanomètre plus de 1cm)2

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