De Malplaatjes van Nanoimprint van Eulitha

De malplaatjes van Eulitha worden nanoimprint vervaardigd met elektronenstraal of zijn unieke EUV lithografietechnologie. De Standaard malplaatjes omvatten 35 NM helft-hoogte lineaire gratings en 53 NM helft-hoogte puntseries, allebei waarvan met uitzonderlijke kwaliteit dankzij het EUV blootstellingsvermogen worden gemaakt. De Naar maat gemaakte malplaatjes worden gemaakt volgens klantenspecificaties met de meest geschikte technologiekeus: De technologie EUV laat productie van high-resolution periodieke structuren (sub-100nm) over grote gebieden toe terwijl de e-straal voor het maken van willekeurige patronen wordt gebruikt.

De Toepassingen van de malplaatjes van Eulitha omvatten procesontwikkeling en controle, nano-optica, SERS substraten, gevormde magnetische media, microscoopkaliberbepaling, nano-elektronika en templated zelf-assemblage. Contacteer ons met uw behoeften aan deskundig advies van ons wereld-beroemd wetenschappelijk personeel.

Zeer Belangrijke eigenschappen:

  • Resolutie neer aan 20 NM
  • (De facultatieve) deklaag van de anti-Adhesie
  • Snelle draai rond tijd van 4-6 weken
  • De combinaties van het Gebied/van de resolutie (b.v. 35 NM meer dan 1cm)2

Other Equipment