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Automatisierte UV-NIL Nanoimprint Lithographie-Anlage - der IQ-Ausrichtungstransport von EV-Gruppe

Automatisierte UV-NIL Nanoimprint Lithographie-Anlage - der IQ-Ausrichtungstransport von EV-Gruppe

Die IQ-Ausrichtungstransport Ultraviolette Anlage Nanoimprint-Lithographie-(UV-NIL) lässt die micromolding und nanoimprinting Prozesse mit Stempeln und Wafers von 150 mm zu 300mm Durchmesser zu. Einheitliche Kontaktkraft für hohes Drucken des Ertraggroßen gebiets wird von der eigenen Futterauslegung EV-Gruppe zur Verfügung gestellt, die Weiche und harte Stempel unterstützt. Konfigurationen umfassen Öffnungsmechanismen für Stempel von aufgeprägten Substratflächen.

Merkmale der Anlage IQ-Ausrichtungstransport-UV-NIL

  • Für micromolding Anwendungen von optischen Elementen
  • Für nanoimprinting Anwendungen des Vollfelds
  • 3 unabhängig esteuerte Zspindeln für überlegenen Keilausgleich zwischen Stempel und Substratfläche
  • 3 unabhängig esteuerte Zspindeln zu TTV-Regelung des Impressums widerstehen
  • Weiche UV-NIL Prozesse, die Weichefunktionsstempel verwenden
  • Automatisierte de-Prägungsfunktion Eigentümers EVGS völlig
  • Resist füllen Stationsintegration ab
  • Bondausrichtungs- und UV-Masseverbindungsfähigkeiten

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