解決對 45nm 節點的以遠缺陷的軸向元素分析的協作和

FEI 公司, (那斯達克: FEIC),基本縮放比例想像和分析系統一位主導的提供者和 SEMATECH,芯片製造商全球財團,今天宣佈 FEI 公司在學院 Nanoscale 科學和工程連接了 SEMATECH 的提前的計量學發展方案 (CNSE) 大學在阿爾巴尼。 協作在新穎的技術的發展的當前共同努力將擴展啟用被改進的程序控制和產量。

作為此程序的成員, FEI 與關於 SEMATECH 的計量學部門的專家將合作開發透射電鏡術分析的高分辨率功能 (TEM),與電子能量損失分光學 (EELS)和集中的離子束 (FIB)技術處理在工藝過程開發和缺陷分析的重要需要。 這些工具在一些毫微米等級將提供高分辨率想像和作文數據,為缺陷分析是無價的。

「先進發展計量學程序是的 SEMATECH 的合作設計的一個光輝的榜樣主導的設備和材料製造商能參加一家更加清楚的財團大學行業合夥企業開發最尖端的計量學和描述特性技術」,說約翰 Warlaumont,技術 SEMATECH 副總統。 「在國際水平的研究員和工程師中的合作工作成績從 FEI, SEMATECH 和 CNSE,以及存取對重要實驗室分析設備可用在 CNSE 內,形成一個重要基石在提供世界領先的先進的計量學功能給我們的成員」。

「FEI 自豪地把我們高度先進供給 SEMATECH 薄酥餅對TEM 數據設備套件,將幫助他們最大化高分辨率想像的數量和下一代半導體設備的分析數據輸出」,說魯迪 Kellner,副總統 & 總經理 FEI 的電子分部。 「使用自動化,高處理量 CLM+™ TEM 範例準備解決方法,結合與 FEI 的 TEMLink 鱗片请抱起系統, SEMATECH 能導致其巨人的 TEM 優質 TEM 鱗片一件平穩的用品。 用新的 MultiLoader 二重掀動範例持有人裝備,巨人 TEM 達到史無前例的連通性的級別在系統平臺啟用安全,可靠和可追蹤的範例調用間的」。

分析 TEM 為基礎研究歷史上使用了在高級材料發展。 然而,當電子設備處理毫微米縮放比例,包括甚而一些個原子的缺陷變得重要。 TEM 和鰻魚的組合是唯一地強大的因為它在毫微米等級提供關於物理結構、基本排列、化工接合、密度和電子工作情況的詳細信息。 這個結果比對更小的套可能的技術是每材料一個更加完全的配置文件。

「FEI 的 TEM 的綜合化用鰻魚是替換對這個 45nm 節點的缺陷的軸向元素分析的基於 SEM 的 EDX 的一名主導的候選人以下」,副教授和負責人說 Nanoscience 布萊德 Thiel, CNSE SEMATECH 的提前的計量學發展方案的在 UAlbany NanoCollege。 「我們歡迎 FEI 的會員,并且盼望他們的參與,當我們共同努力駕駛進程、材料和為持續的進展和領導是重要的在 nanoscale 製造中的描述特性技術發展」。

「我們高興地歡迎 FEI 到參與最尖端的 nanoelectronics 研究與開發領先業界的公司生長花名冊在 UAlbany NanoCollege」,理查 Brilla,說方法、聯盟和財團副總裁在 CNSE。 「與更加進一步的 FEI 的此合作關係展示 SEMATECH-CNSE 合夥企業的成功在加速的 nanoscale 創新的,支持作早期工作在教育和促進高科技經濟增長,在納米技術方面強調紐約的識別作為一位全球領導先鋒」。

新的材料的綜合化到半導體設備裡要求先進的分析描述特性技術例如 TEM 提供的高分辨率想像功能。 小謊技術唯一地適用與準備從甚而最小的設備功能的超薄的 TEM 範例。

在 UAlbany NanoCollege 的 SEMATECH 的提前的計量學發展方案是估計和開發將解決當前和設想的計量學空白的新的描述特性技術。 「我們的目標是開發描述特性技術,并且解決問題的範圍的方法,包括影片的,缺陷計量學和 3D 結構」, Thiel 說。

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