Sistema de Registo Novo do Photomask dos Lançamentos de Carl Zeiss

Carl Zeiss introduz seu Sistema do Registo de PROVE™ e da Metrologia da Folha De Prova para photomasks na Conferência do Photomask de SPIE na colocação da imagem das medidas de Monterey/CA PROVE™ em photomasks com a definição superior que cumpre as exigências desafiantes do nó da tecnologia 32nm e além.

Uma extensão Mais Adicional da litografia 193nm aos nós seguintes da tecnologia introduzindo correcções ópticas fortes da proximidade e pela modelação dobro exige aproximações novas para o registo do photomask e a metrologia da folha de prova.

Novo PROVE o Sistema do Registo do Photomask e da Metrologia da Folha De Prova

Com sua difracção limitada, o trabalho ótico da imagem lactente de alta resolução no comprimento de onda 193nm relevante litográfico o sistema novo de PROVE™ abre inteiramente novas perspectivas na metrologia do registo. PROVE™ permite a medida das características as menores da produção sem colocar marcas de registo. “Esta metrologia real do registo do em-dado é um benefício enorme para nossos clientes na Fabricação da Máscara. Pela primeira vez na história, os fabricantes da máscara podem medir e analisar o registo onde importa realmente. Adicionalmente, com definição crescente exige por exemplo para a litografia de EUV, nós podemos estender nossas capacidades da ferramenta aos próximos nós da tecnologia.” explica o Dr. Oliver Kienzle, Director Administrativo da Divisão de Sistemas da Metrologia do Semicondutor de Carl Zeiss SMT.

A estratégia proprietária do autofocus e da calibração do sistema novo permite uma repetibilidade abaixo de 0.5nm e uma precisão abaixo de 1nm para o melhor desempenho da medida do registo.

Mesmo na fabricação de escritores da máscara o sistema de PROVE™ é usado para ajustar os geradores de teste padrão para melhorar resultados da colocação do teste padrão e para minimizar erros de registo em photomasks. Recentemente Carl Zeiss relatado sobre a expedição da primeira ferramenta a NuFlare Tecnologia Inc., os mundos que conduzem o fornecedor do e-feixe baseou escritores da máscara.

O sistema seguinte a um cliente da Loja da Máscara será entregado no final deste mês.

13 de setembro de 2010 Afixado

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