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La Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford Recibe Orden del Instituto de la Nanotecnología

La Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford, el arranque de cinta en sistemas del grabado de pistas, de la deposición y del incremento, ha recibido recientemente una pedido para tres los grabados de pistas del plasma y herramientas de la deposición del Centro de la Excelencia en Nanoelectronics (CEN) en el Instituto Indio de la Ciencia (IISc) en Bangalore, la India. Las tres herramientas System100 serán situadas en cuarto limpio del recurso avanzado de la nanofabricación del CEN el nuevo y consistir en dos herramientas del grabado de pistas de la Cobra de PlasmaPro™ System100 ICP y una herramienta de PlasmaPro System100 PECVD.

Una solución flexible y potente para los procesos de la aguafuerte y de la deposición del plasma, el asiento carga-bloqueado del fulminante de System100 permite intercambio rápido del fulminante, la gama más amplia de gases de proceso y una gama de temperaturas de proceso extendida. Permitir la adaptabilidad de proceso máxima para el semiconductor compuesto, optoelectrónica, photonics, las aplicaciones de MEMS y del microfluidics, el etcher del plasma de PlasmaPro System100 y herramienta de la deposición puede tener muchas configuraciones, incluyendo las opciones del ICP y de PECVD pedidas por IISc.

Los dos sistemas de ICP-RIE y los sistemas de PECVD se han configurado para la gama más amplia de los procesos requeridos en el CEN, IISc, que es un recurso nacional multiusos. Las químicas del grabado de pistas incluyen la capacidad para grabar el ácido la polisilicona, el óxido de silicio, el nitruro de silicio y una variedad de metales. Además del silicio que tramita, las herramientas también se configuran para la capacidad de proceso del GaAs y de GaN para los transistores de potencia de alta velocidad, de alta frecuencia. El sistema de PECVD activa el nitruro dirigido tensión para los sensores de MEMS, el óxido de la baja temperatura y la membrana muy gruesa de la polisilicona como material estructural para los sensores de inercia.

Comentarios Prof.Navakanta Bhat del Departamento de la Ingeniería de Comunicación Eléctrica en IISc, “Elegimos pedir sistemas de los Instrumentos de Oxford los' para su uniformidad de proceso superior, y el de alto nivel del soporte ofreció por la compañía. Las capacidades técnicas del estado mayor y de su buena voluntad Nos creamos una diferencia de potencial determinado de trabajar con sus clientes, en vista del cliente como socio.

Nuestro nuevo recurso será uno de su clase en el país con un cuarto limpio de 14.000 sq.ft en un nuevo edificio (90.000 sq.ft) para el Centro para la Ciencia Nana e Ingeniería (CeNSE). El cuarto limpio avanzado contendrá las mejores herramientas, abasteciendo a las necesidades diversas de investigadores, y sistemas de los Instrumentos de Oxford los' ofrecen la anchura de procesos y de la tecnología delantera del borde que necesitamos. Los Instrumentos' sistemas de Oxford permitirán a IISc realizar la investigación de la frontera en varias áreas, incluyendo la electrónica de Nanoscale y MEMS y ayudar a lograr nuestro objetivo de crear las tecnologías que se pueden explotar comercialmente por la industria.”

Marque Vosloo, Ventas y encantan al Director de la Atención al Cliente para la Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford con esta orden, “Esta segunda orden en un año de resultados Indios importantes de un Instituto de Investigación de nuestra capacidad de encontrar a nuestros clientes' necesidades con tecnología avanzada y servicio, mientras que teniendo la experiencia para que ellos puedan confiar en nuestros productos de calidad mundial innovadores.”

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