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牛津仪器等离子技术从纳米技术学院收到订单

牛津仪器等离子技术,领导先锋在铭刻、证言和增长系统,从成就卓越中心最近收到了订单三个等离子铭刻和证言工具的在 Nanoelectronics (CEN) 在科学 (IISc) 印第安学院在班格洛,印度。 三个 System100 工具在 CEN 的科技目前进步水平极小制作设备的新的洁净室将位于和包括二个 PlasmaPro™ System100 ICP 眼镜蛇铭刻工具和一个 PlasmaPro System100 PECVD 工具。

等离子蚀刻和证言进程的一个灵活和强大的解决方法, System100 负荷锁着的薄酥饼项允许快速薄酥饼替换、大范围处理气体和延长的处理温度范围。 允许化合物半导体的最大处理灵活性、光电子学、 photonics、 MEMS 和 microfluidics 应用、 PlasmaPro System100 等离子蚀刻师和证言工具可能有许多配置,包括 IISc 定购的 ICP 和 PECVD 选项。

二个 ICP-RIE 系统和 PECVD 系统为大范围进程配置了需要在 CEN, IISc,是一个多用户国家设备。 铭刻化学包括这个功能铭刻多晶硅、氧化硅、氮化硅和各种各样的金属。 除处理的硅之外,也配置工具为 GaAs 和 GaN 加工能力为高速,高频率功率晶体管。 PECVD 系统启用重点 MEMS 传感器、低温氧化物和非常厚实的多晶硅膜的设计的氮化物作为惯性传感器的结构上的材料。

备注从电子通信工程的部门的 Prof.Navakanta Bhat 在 IISc 的, “我们选择定购牛津他们的优越处理均一的仪器’系统,并且高级技术支持由这家公司提供。 我们由人员和他们的自愿的技术功能特别地打动从事与他们的客户,就这个客户而论作为合作伙伴。

我们新的设备将是一个其在有一个 14,000 个 sq.ft 洁净室的国家(地区) 一个新的大厦的 (90,000 个 sq.ft) 纳诺科学中心的和工程 (请焚香)。 这个科技目前进步水平洁净室将安置最佳的工具,迎合研究员的不同的需要,并且牛津仪器’系统提供我们需要进程和前沿技术的广度。 牛津仪器’系统在一定数量的区将使 IISc 进行边境研究,包括 Nanoscale 电子和 MEMS 和帮助达到我们的创建可以由行业商业上利用的技术的目标”。

标记 Vosloo,销售额 & 牛津仪器等离子技术的客户支持主任对此顺序高兴, “此第二顺序在从一个重要印第安研究所结果的一年从我们的能力满足我们的客户’需要通过先进技术和服务,当有他们的经验能能取决于我们的创新国际水平的产品时”。

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