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牛津儀器等離子技術從納米技術學院收到訂單

牛津儀器等離子技術,領導先鋒在銘刻、證言和增長系統,從成就卓越中心最近收到了訂單三個等離子銘刻和證言工具的在 Nanoelectronics (CEN) 在科學 (IISc) 印第安學院在班格洛,印度。 三個 System100 工具在 CEN 的科技目前進步水平極小製作設備的新的潔淨室將位於和包括二個 PlasmaPro™ System100 ICP 眼鏡蛇銘刻工具和一個 PlasmaPro System100 PECVD 工具。

等離子蝕刻和證言進程的一個靈活和強大的解決方法, System100 負荷鎖著的薄酥餅項允許快速薄酥餅替換、大範圍處理氣體和延長的處理溫度範圍。 允許化合物半導體的最大處理靈活性、光電子學、 photonics、 MEMS 和 microfluidics 應用、 PlasmaPro System100 等離子蝕刻師和證言工具可能有許多配置,包括 IISc 定購的 ICP 和 PECVD 選項。

二個 ICP-RIE 系統和 PECVD 系統為大範圍進程配置了需要在 CEN, IISc,是一個多用戶國家設備。 銘刻化學包括這個功能銘刻多晶硅、氧化硅、氮化硅和各種各樣的金屬。 除處理的硅之外,也配置工具為 GaAs 和 GaN 加工能力為高速,高頻率功率晶體管。 PECVD 系統啟用重點 MEMS 傳感器、低溫氧化物和非常厚實的多晶硅膜的設計的氮化物作為慣性傳感器的結構上的材料。

備注從電子通信工程的部門的 Prof.Navakanta Bhat 在 IISc 的, 「我們選擇定購牛津他們的優越處理均一的儀器』系統,并且高級技術支持由這家公司提供。 我們由人員和他們的自願的技術功能特別地打動從事與他們的客戶,就這個客戶而論作為合作夥伴。

我們新的設備將是一个其种在有一個 14,000 个 sq.ft 潔淨室的國家(地區) 一個新的大廈的 (90,000 个 sq.ft) 納諾科學中心的和工程 (请焚香)。 這個科技目前進步水平潔淨室將安置最佳的工具,迎合研究員的不同的需要,并且牛津儀器』系統提供我們需要進程和前沿技術的廣度。 牛津儀器』系統在一定數量的區將使 IISc 進行邊境研究,包括 Nanoscale 電子和 MEMS 和幫助達到我們的創建可以由行業商業上利用的技術的目標」。

標記 Vosloo,銷售額 & 牛津儀器等離子技術的客戶支持主任對此順序高興, 「此第二順序在從一個重要印第安研究所結果的一年從我們的能力滿足我們的客戶』需要通過先進技術和服務,當有他們的經驗能能取決於我們的創新國際水平的產品時」。

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