Carl Zeiss y Synopsys Colaboran en la Metrología de la Inscripción del En-Dado para la Fabricación del Photomask

Carl Zeiss SMS GmbH, surtidor de cabeza para las herramientas y Synopsys, Inc. (Nasdaq de la metrología y de la reparación del photomask: SNPS), un líder mundial en software y el IP para el diseño del semiconductor, la verificación y la fabricación, anunciaron hoy una colaboración para utilizar la familia de la herramienta de ZEISS para las soluciones de la metrología del en-dado para el nodo de la tecnología (nm) de 32 nanómetros y abajo.

Synopsys ofrecerá el soporte para ZEISS' PROVE™, la herramienta de la metrología de la inscripción de la siguiente-generación, con Synopsys' CATS™, la solución tecnología-de cabeza de la preparación de datos de la máscara. Usando GATOS como el motor de la preparación de datos, los representantes técnicos de la máscara que usan PROVE pueden beneficiarse de eficiencia y de utilidad mejoradas de un sistema de la metrología de la inscripción que cumpla requisitos rigurosos de la exactitud del papel.

La preparación de datos de la Máscara por los GATOS fortalecerá más lejos la eficiencia PROVE.

La corrección óptica Fuerte de la proximidad y las técnicas que modelan dobles, requeridas para ampliar la litografía de 193 nanómetro a los nodos siguientes de la tecnología, exigen mayor exactitud de la colocación del modelo del photomask. El nuevos PRUEBAN que el sistema cubre estas demandas crecientes con su concepto innovador de las 193 ópticas de la iluminación del nanómetro. Entrega una capacidad de la metrología del en-dado para la medición de las características más pequeñas de la producción sin poner marcas de inscripción, permitiendo a fabricantes de la máscara medir y analizar la inscripción en áreas críticas en la máscara.

El nuevo módulo de los GATOS, actualmente en disponibilidad de cliente limitada y generalmente - disponible en marzo de 2011, activa un flujo rápido, eficiente y completo automatizado para el ajuste de los trabajos de la metrología del photomask. Usando los formatos abiertos OASIS.MASK y XML del estándar industrial, las capacidades avanzadas y método de correlación bidimensional del PROBAR (el 2.o), GATOS de la marca ofrece un aumento importante a los esquemas convencionales del análisis de imagen. El método innovador compara las 2.as grapas del diseño de la máscara proporcionada por los GATOS con imágenes en la máscara capturada por PROVE, dando por resultado una exactitud más alta de la medición comparada a los métodos estándar usando las mediciones 1D basadas en los bordes solamente.

“Con la experiencia a largo plazo de Synopsys' en la preparación de datos de la máscara y Carl Zeiss' conocimientos técnicos en metrología del en-dado, el nuevo módulo de los GATOS con sus capacidades emocionantes ayudará importante a reducir desvíos de inscripción de la máscara en características arbitrarias de la producción,” dijo al Dr. Dirk Beyer, Director de producto para PROVE en Carl Zeiss SMS GmbH.

Los desvíos de Inscripción se pueden ahora cuantificar para cada máscara sin limitaciones de la resolución, dando a fabricantes de la máscara totalmente una nueva herramienta para reducir desvíos de la colocación en papel doble el modelar y de la máscara-a-máscara.

“Colaboración de Synopsys la' con Carl Zeiss ejemplifica nuestra consolidación a ofrecer la litografía completa, examen y las soluciones de la metrología a la fabricación de la máscara comercializan”, dijeron a Fabio Angelillis, vicepresidente de la ingeniería para el Silicio de Synopsys' Que Dirige al Grupo. “Extendiendo GATOS al soporte PRUEBE, estamos entregando soluciones más de alta calidad de la metrología a nuestros clientes en el nodo de la tecnología de 32 nanómetros y abajo,” él agregó.

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