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UMPF 選擇 DC24000 光盤離心機開發納米技術產品

Analytik 高興地宣佈超混合的和處理設施 (UMPF) 根據在利物浦大學選擇 DC24000 光盤離心機從 CPS 儀器歐洲進一步支持他們的處理為納米技術產品的工業規模的發展工具。

UMPF,一個唯一高能流動加工試驗室,對專用和國營部門企業/學院是可訪問的合同研究的到可升級的液體散射進程。 UMPH 產生直接存取 nanomaterials 的發展的最新的技術各種各樣的應用的包括醫療,個人照料、食物、油漆、洗滌劑和潤滑劑。

納諾乳化液是受益於被改進的可變的加工技術的區。

操作管理員,邁克爾 J. Egan 博士,描述 UMPH 如 『著重提供服務為行業在最前方高能散射技術…消費其在集中的研究協作的時間 50% 行業和學術界。 UMPH 積極促進其有大學的其他區的客戶的協作』。

对乳化液的描述特性和在 UMPH 的納諾屬於顆粒的解決方法 CPS 光盤離心機為產生的更多 『傳統』光散射技術或光學顯微學提供替代其在顆粒大小範圍的靈活性和範例類型的數量可用為分析。 CPS DC24000 提供對納諾微粒人口的程序超高分辨率分析下來到 2 毫微米和在大小上有所不同一樣少許像 2%。 研究員現在有這個能力比較在多個平臺間的範例評定包括 DLS 和 Zetasizer、 CPS DC、 SEM 和光學顯微學。

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