La Technologie de Plasma d'Instruments d'Oxford Annoncent des Dates pour 2011 Séminaires

Après la réussite du séminaire de l'année dernière et du programme d'atelier, la Technologie de Plasma d'Instruments d'Oxford retiendra de nouveau plusieurs événements assimilés cette année conjointement avec les instituts de recherches et les universités principaux mondial. Les Orateurs viendront des universités d'hôte et d'un certain nombre de d'autres instituts et industrie, en plus des experts en matière de procédé et d'applications de la Technologie de Plasma d'Instruments d'Oxford, fournissant leurs connaissances approfondies du sujet choisi.

Les Instruments d'Oxford organise conjointement un certain nombre de séminaires réussis annuellement

Th 2011 des 11-12 mars - Nanoelectronics : Accroissement, dépôt, corrodant
Hébergé par l'Institut de l'Académie Chinoise de Semi-conducteurs des Sciences (IOS) et des Instruments d'Oxford dans Pékin

30 juin 2011 - partenariat de création de la Connaissance - du financement aux résultats
Atelier hébergé par l'Université des Instruments de Southampton et d'Oxford à l'Université de Southampton

Th 2011 des 14-15 juillet - Frontières Neuves dans la structuration Nanoe de Plasma
Hébergé par la Fonderie Moléculaire, Laboratoire National de Lawrence Berkeley, CA, ETATS-UNIS

La compagnie planification également pour retenir un Séminaire/Atelier en France, datent pour être confirmées.

Les Programmes sont disponibles, et pour plus d'informations sur chaque séminaire et/ou pour s'inscrire à un email de place : [email protected]

Les systèmes gravure à l'eau forte, du dépôt et de l'accroissement des Instruments d'Oxford fournissent les solutions de processus pour le bureau d'études micro et de nanomètre des matériaux pour le semi-conducteur, l'optoélectronique, le MEMS et le microfluidics, la couche optique de haute qualité et beaucoup d'autres applications en micro et nanotechnologie.

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