牛津儀器等離子技術宣佈 2011 個研討會的日期

在去年的研討會和討論會程序之後的成功,牛津儀器等離子技術與關鍵研究所 & 大學一道今年再將舉行幾個相似的活動全球性地。 除從牛津儀器等離子技術的進程和應用專家之外報告人將來自自主機大學和一定數量的其他學院和行業,提供他們的選擇的事宜的詳細知識。

牛津儀器每年共同主辦一定數量成功的研討會

2011年 3月 11 12日 - Nanoelectronics : 增長,證言,銘刻
主持由半導體中國科學院學院 (IOS) & 牛津儀器在北京

2011年 6月 30日 - 知識創建合夥企業 - 從資助到結果
南安普敦大學主持的討論會 & 牛津儀器在南安普敦大學

2011年 7月 14 15日 - 在等離子納諾仿造的新的邊境
主持由分子鑄造廠,勞倫斯伯克利國家實驗室,加州,美國

這家公司在法國也計劃舉行一次研討會/會議,約會被確認。

程序是可用的,和關於每個研討會的更多信息並且/或者登記安排電子郵件: plasma@oxinst.com

牛津儀器的銘刻、證言和增長系統為微型和毫微米工程半導體的材料提供處理解決方法、光電子學、 MEMS & microfluidics、優質光學塗層和許多其他應用在微型和納米技術方面。

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