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EV のグループは 2010 人のヨーロッパ人の Nanoimprint の技術の製品革新賞を受け取ります

独立した市場調査会社から 2010 人のヨーロッパ人の Nanoimprint の技術の製品革新賞を受け取ったことを EV のグループ (EVG)、 MEMS のナノテクノロジーおよび半導体の市場のためのウエファーの結合および石版印刷装置の一流の製造者は、今日、 Frost & Sullivan 発表しました。 著名な賞は nanoimprinting 解決との産業必要性の対応の EVG の業積を認識します。

Frost & Sullivan はエンドユーザーの技術、産業実施、解決のポートフォリオ (NIL)、達成の市場の将来の必要性および影響の進歩を含む複数のカテゴリを渡る多重 nanoimprint の石版印刷の提供者をランク付けした広範囲の研究の調査を実行しました。 あらゆるカテゴリの高い点間で受け取られた EVG は最も近い競争相手のオーバーオールよりかなり高くランク付けし。

「ウエファーの結合、 3D 相互接続および MEMS の製造業のの市場におけるリーダーシップとツール、 EV のグループに nanoimprinting 解決と相乗作用を与える異なった領域で広大な専門知識が」、言いました Frost & Sullivan の研究のアナリスト、ケネス Chua をあります。 半導体工業の必要性を達成する証明された解決を提供するために 「会社は知られています。 その無装置はこの遺産を続け、エンドユーザーに持って来ます約低価格、高スループットおよび信頼できる解決を」。

Frost & Sullivan に従って、無の競争の多くは無を主流の半導体の製造のために実行可能にさせるか、または未来のデータ記憶媒体 (ハードディスク・ドライブのビットによって模造される媒体) のための模造に焦点を合わせました。 それに対して、 EVG は主高い成長の市場に、製造業者が EVG の無の技術から正常に今日寄与している光学および microfluidics を含んで焦点を合わせるために専門知識および経験にてこ入れしました。

さらに、 EVG は無の技術の機能そしてパフォーマンスを高め続けると同時に定期的に他の市場のための潜在性を評価します--そして無がデータ記憶および主流の半導体の製造業者の必要性に適されるようになれば開発戦略を再調整するために準備されます。 これは紫外助けられた nanoimprinting を使用して直径の 12.5 nm、 EVG620、 EVG6200 および EVG770 無システムとの互換性がある小さい機能を模造する機能の EVG で後の開発で明白です。

コメントしてについて賞、トマス Glinsner 先生は無の技術の革新の品質そして EVG の顕著な達成へ、また市場の需要と開発努力を一直線に並べることの会社の全面的な成功へ、 EV の製品管理の主導グループは言いました、 「nanoimprint の石版印刷の経験のディケイドと、この賞はです遺言」。

機械平均によって Nanoimprinting が基板のパターンを作り出すのに使用されています。 柔らかさのスタンプを生成するのにマスターの捺印のスタンプが使用されているという、 EVG の紫外助けられた無 (UV-NIL)、また熱い浮彫りになるプロセスは会社の専有柔らかいスタンプの技術にてこ入れします。 この方法は減らされた機械接触によるマスターのスタンプの寿命を増加し、顧客を所有権の費用の全面的な減少から寄与することを可能にします。

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