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Oxford-Instrument-Plasma-Technologie Gewinnt Ordnung Von einem Führenden Hersteller HB-LED

Oxford-Instrument-Plasma-Technologie (OIPT) freut sich, anzukündigen, dass sie vor kurzem eine Ordnung von einem führenden Hersteller von HB-LED für drei Plasma-Ätzungshilfsmittel Plasmalab®System133 ICP380 für Gebrauch in der Herstellung der Hohen Helligkeit LED (HB-LED) gewonnen hat. Diese Ordnung ist die erste einer Potenzialsumme von bis fünfzehn Anlagen von diesem wichtigen Hersteller des Asiaten HB-LED, der möglicherweise in den folgenden 12 Monaten benötigt wird, und validiert Stellung OIPTS da ein Schlüssellieferant im HB-LED Markt.

Plasma-Ätzungshilfsmittel Plasmalab®System133 ICP380

Diese Ordnung kommt auch oben auf, was einen sehr erfolgreichen Monat für OIPT mit den Aufträgen geprüft hat, die für über 20 Anlagen vergeben werden. Dieses macht Oktober den vierten höchstwertigen Monat in der Geschichte der Firma und konsolidiert extrem erfolgreichen 12 Monate, die bereits die ersten und zweiten höchstwertigen Monate gesehen hat.

Markieren Sie Vosloo, Verkaufsleiter für Oxford-Instrumente Plasma-, dasTechnologie offenbar mit diesem Ergebnis erfreut wird, „die Kombination von einem in hohem Grade motivierten, erfahren und erfahrene Verkäufe team und verkaufen ausgezeichnete Anlagen und erreichbare Fertigungsgenauigkeiten, bedeutet, dass OIPT bleiben extrem wettbewerbsfähig in der Lage gewesen ist und erhöht seine Ordnungsstufen, sogar während einer schwierigen Zeitpunkte. OIPT ist in der Lage, seine Fähigkeiten zu verwenden, um neue Absatzmärkte wie photovoltaics einzutragen und LED-Beleuchtung, in der unsere Vorderkantetechnologien in zunehmender Nachfrage und unsere große Produktpalette wie Plasmaätzung und -absetzung sind, Atomschichtabsetzung und Ionenträgerätzung und -absetzung tragen zu unserem Erfolg.“ bei

Oxford-Instrument-Plasma-Technologie ist ein führender Anbieter von flexiblen Prozesshilfsmitteln und führende Prozesse für die Technik von Nano-schuppe Zellen und Einheiten, basiert auf Kerntechnologien in Plasma-erhöhter Absetzung und Ätzung, Ionenbündelabsetzung und -ätzung, Atomschichtabsetzung (ALD) und Hydriddampfphasenepitaxie (HVPE).

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