Posted in | Nanoenergy | Nanofabrication

De Technologie van het Plasma van de Instrumenten van Oxford Wint Orde Van een Belangrijke Fabrikant HB-LEDs

De Technologie van het Plasma van de Instrumenten van Oxford (OIPT) is pleased om aan te kondigen dat het onlangs een orde van een belangrijke fabrikant van HB-LEDs voor plasma drie Plasmalab®System133 ICP380 etst hulpmiddelen voor gebruik in Hoge (hb-GELEID) LEIDEN van de Helderheid vervaardigend heeft gewonnen. Deze orde is eerste van een potentieel totaal van zelfs vijftien systemen van deze belangrijke Aziatische hb-GELEIDE fabrikant die in de loop van de volgende 12 maanden kan worden vereist, en bevestigt de positie van OIPT als zeer belangrijke leverancier in de hb-GELEIDE markt.

Het plasma van Plasmalab®System133 ICP380 etst hulpmiddel

Deze orde komt ook bovenop wat een zeer succesvolle die maand voor OIPT met orden bewezen heeft voor meer dan 20 systemen worden geplaatst. Dit maakt Oktober de vierde hoogste ordemaand in de geschiedenis van het bedrijf, consoliderend uiterst succesvolle 12 maanden die reeds de eerste en tweede hoogste ordemaanden heeft gezien.

Het Teken Vosloo, de Directeur van de Verkoop voor de Technologie van het Plasma van de Instrumenten van Oxford is duidelijk opgetogen met dit resultaat, de „Ervaren combinatie van hoogst gemotiveerd, en het bekwame verkoopteam, verkopende uitstekende systemen en procesmogelijkheden, bedoelt dat OIPT uiterst concurrerend heeft kunnen blijven en zijn ordeniveaus verhogen, zelfs tijdens dergelijke opwindende tijden. OIPT kan zijn mogelijkheden gebruiken om nieuwere markten zoals photovoltaics en LEIDENE verlichting in te gaan, waar onze voorrandtechnologieën in de stijgende vraag zijn en onze brede waaier van producten zoals plasma en deposito etst, atoomlaagdeposito en de ionenstraal etst en het deposito draagt tot ons succes bij.“

De Technologie van het Plasma van de Instrumenten van Oxford is een belangrijke leverancier van flexibele die proceshulpmiddelen en leadingedge processen voor de techniek van nano-schaalstructuren en apparaten, op kerntechnologieën wordt gebaseerd in plasma-verbeterd deposito en etst, ionenstraaldeposito en etst, atoomlaagdeposito (ALD) en de faseepitaxy van de hydridedamp (HVPE).

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit