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A Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford Ganha o Pedido De um Fabricante HB-Diodo emissor de luz Principal

A Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford (OIPT) é satisfeito anunciar que tem ganhado recentemente um pedido de um fabricante principal de HB-Diodo emissor de luz para três ferramentas gravura em àgua forte do plasma de Plasmalab®System133 ICP380 para o uso na fabricação do DIODO EMISSOR DE LUZ do Brilho Alto (HB-LED). Este pedido é o primeiro de um total do potencial de até quinze sistemas deste fabricante importante do Asiático HB-LED que pode ser exigido durante os próximos 12 meses, e valida a posição de OIPT porque um fornecedor chave no mercado de HB-LED.

Ferramenta gravura em àgua forte do plasma de Plasmalab®System133 ICP380

Este pedido igualmente vem sobre o que provou um mês muito bem sucedido para OIPT com os pedidos colocados para mais de 20 sistemas. Isto faz a Outubro o quarto mês o mais alto do pedido na história da empresa, consolidando uns 12 meses extremamente bem sucedidos que tem considerado já os primeiros e segundos meses os mais altos do pedido.

Marque Vosloo, Director de Vendas para Instrumentos de Oxford a Tecnologia do Plasma que é deleitada claramente com este resultado, “A combinação de um altamente motivado, experiente e as vendas especializadas team, vendendo sistemas e capacidades de processo excelentes, significam que OIPT pôde permanece extremamente competitivo e aumentam seus níveis do pedido, mesmo durante tais vezes desafiantes. OIPT pode usar suas capacidades para incorporar uns mercados mais novos tais como o photovoltaics e a iluminação do DIODO EMISSOR DE LUZ, onde nossas tecnologias da vanguarda estão na procura crescente e a nossa vasta gama de produtos tais como gravura em àgua forte e depósito do plasma, depósito atômico da camada e gravura em àgua forte e depósito do feixe de íon contribui a nosso sucesso.”

A Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford é um fornecedor principal de ferramentas flexíveis do processo e processos leadingedge para a engenharia de estruturas e dispositivos da nano-escala, com base em tecnologias de núcleo no depósito plasma-aumentado e gravura em àgua forte, depósito e gravura em àgua forte do íon-feixe, depósito atômico da camada (ALD) e epitaxia da fase de vapor do hidruro (HVPE).

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