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Pistola de Ión del Cesio del Lanzamiento de Hiden para la Medición de Elementos Electronegativos

Hiden Analítico introduce la nueva Pistola de Ión del Cesio de IG-5C para las aplicaciones primarias del haz de ión en la medición de SIMS de elementos electronegativos y para los análisis de atado del cesio. Con fuente de baja potencia, de la alto-brillantez única de ión, la olumna del ión y el módulo compacto de la dirección de haz que la pistola prueba adaptado idealmente a dinámico, la estática y la proyección de imagen SIMS.

El haz intenso de los iones del cesio producidos de la fuente superficial de la ionización se enfoca y genera altamente un plumón ajustable de la talla de mancha a apenas 20 micrones. El ensamblaje de la fuente de ión es compacto, autoalineador y simple reemplazar. La energía del Haz es variable de 5kev a 0.5kev, con las corrientes del haz a 150nA. El borde de montaje es el Conflat-Tipo borde del diámetro de 2.75inch/70m m y la unidad diferenciado se bombea para mantener presiones verdaderas de UHV.

El Mando del IG-5C está vía un interfaz En PC permitiendo ajuste fácil y reproductivo. Los mandos de interfaz los parámetros del electrodo y la administración térmica de la fuente de ión, y proporcionan a las opciones de configuración para las aplicaciones de mancha de gran intensidad y pequeñas. El retículo del haz se puede externamente impulsar con un rato mínimo del barrido de 64 microsegundos y con una desviación de haz de +/-4mm. Un retículo interno de la precolocación se proporciona además para los tratamientos de la preparación superficial. El empalme Directo con un detector de la MÁXIMA o de EQS SIMS de Hiden activa la señal automatizada que bloquea para la adquisición de la proyección de imagen de los datos y de la superficie de cualquier área predefinida dentro de la superficie explorada total.

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