卡爾蔡司和 Synopsys 在製片人光掩膜製造的註冊計量學合作

卡爾光掩膜計量學和維修服務工具的 Gmbh 的蔡司 SMS,主導的供應商和 Synopsys, Inc. (那斯達克: SNPS),在軟件的一個半導體設計、核實和製造的世界領導人和 IP,今天宣佈協作支持製片人以下計量學解決方法的蔡司工具系列 32 毫微米技術節點的。

Synopsys 將提供技術支持蔡司』 PROVE™,下一代註冊計量學工具,通過 Synopsys』 CATS™,主導技術的屏蔽數據準備解決方法。 使用貓作為數據準備引擎,使用 PROVE 的屏蔽工程師能受益於符合嚴密重疊準確性要求註冊計量學系統的被改進的效率和可用性。

屏蔽由貓的數據準備進一步將加強 PROVE 效率。

嚴格的光學接近度更正和雙仿造的技術,要求對下個技術節點擴大 193 nm 石版印刷,需求更加巨大的光掩膜模式位置準確性。 新證明系統適應與其 193 nm 照明光學的開創性概念的這些增長的需要。 它在臨界面積提供最小的生產功能的評定的一個製片人計量學功能,无需安置對準標記,使屏蔽製造商評定和分析註冊在屏蔽。

新的貓模塊,當前在有限客戶可用性和通常可用在 2011年 3月,啟用光掩膜計量學工作設置的快速,高效和充分地自動化的流。 使用工業標準開放格式 OASIS.MASK 和 XML,先進的標號功能和證明二維 (第 2 個) 對比法,貓為常規圖像分析模式提供一種重大的改進。 創新方法貓提供的屏蔽的第 2 個設計夾子與圖像比較在 PROVE 獲取的屏蔽,造成更高的評定準確性與標準方法比較使用 1D 在仅邊緣基礎上的評定。

「與在屏蔽數據準備和卡爾蔡司』技術的 Synopsys』長期經驗在製片人計量學方面,新的貓模塊以其扣人心弦的功能將極大幫助減少屏蔽在任意生產功能的註冊錯誤」,產品管理器說博士德克 Beyer, PROVE 的在卡爾 Gmbh 的蔡司 SMS。

註冊錯誤可能為每屏蔽現在被定量沒有解決方法限制,產生屏蔽製造商為減少位置錯誤的一個全新的工具在雙仿造和屏蔽對屏蔽重疊。

「與卡爾蔡司的 Synopsys』協作舉例證明我們的承諾對提供全面石版印刷,檢驗,并且對屏蔽製造的計量學解決方法銷售」,說法比奧 Angelillis, Synopsys 的』硅設計組的工程的副總統。 「通過延伸貓對技術支持请證明,我們提供更加優質的計量學解決方法到我們的客戶在 32 毫微米技術節點以下」,他補充說。

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