卡爾蔡司獵戶星座加上氦氣離子顯微鏡在子毫微米想像之外移動向極小製作

科學家當前調查氦氣離子顯微學的新的用途在納諾仿造。 因為它沒有由常規 e 射線石版印刷的鄰近效應限制,氦氣離子技術似乎是有前途的替代,特別是當談到打印更加細致的功能。

二年, ORION® 加上氦氣從卡爾蔡司的離子顯微鏡為其在想像未上漆的绝緣的範例和軟的材料的優秀知道與子毫微米解決方法 (解決方法說明 < 0.35 毫微米)。 現在與獵戶星座儀器 - 學術和行業 R&D 顯微鏡家一個增長的產品安裝信息庫擴大應用分集包括極小製作。

當其他小組展示了在 HSQ 的很好描述的 L 棒線路抵抗時,研究員仿造了在 14 毫微米間距的 5 個毫微米小點。 模式保真度此新的政權由大景深顯微鏡的啟用,并且由短程在典型的離子被啟動的二次電子请抵抗材料。 氦氣離子在 HSQ 的被定義的模式可能容易地得到,不用通常縮小的處理視窗約束經常與常規光學和 e 射線石版印刷相關。

根據韋吳,一個新的獵戶星座客戶和一位高級研究科學家在 Stan 威廉的 HP 實驗室的信息和量子論系統實驗室在帕洛阿爾托,加利福尼亞, 「我們盼望促進我們的關於最小的可能的納諾電子和納諾光子的功能的製造和想像的研究。 我們看見獵戶星座導航作為將使我們繼續我們破紀錄的研究的一個唯一,強大的工具」。

要瞭解更多關於此扣人心弦的發展,请參觀卡爾蔡司 SMT 攤在國際顯微學國會 (IMC17) 在里約熱內盧,巴西,在您 9月 19-24, 2010年或者與卡爾蔡司 SMT 銷售代理商聯繫。

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