CRAIC の技術からの装置を使用して半導体ウエハーの紫外目に見える NIR の反射率 Microspectroscopy

トピックのリスト

背景
半導体ウエハーの Microspectroscopy
実験および結果

背景

CRAIC の技術は微視的分析のための紫外線目に見えるNIR 範囲の科学器械の開発者を導く世界です。 これらは助けるように設計されている QDI シリーズ紫外線目に見えるNIR マイクロ・スペクトル光度計の器械を非有害測定顕微鏡のサンプルの光学的性質含んでいます。 CRAIC の UVM シリーズ顕微鏡は紫外線、目に見える NIR の範囲をカバーし、目に見える範囲を越えるミクロ以下の解像度とずっと分析するのを助けます。 CRAIC の技術にまた顕微鏡のサンプルの非破壊的な分析のための CTR シリーズラマン microspectrometer があります。 そして CRAIC が得意気に無比のサービスとサポートが付いている私達の microspectrometer および顕微鏡の製品を支持することを忘れないで下さい。

半導体ウエハーの Microspectroscopy

半導体ウエハーの薄膜の紫外線目に見えるNIR microspectroscopic 分析は技術の共通アプリケーションの 1 つです。  紫外線目に見えるNIR 範囲ではシリコンの薄片で沈殿するフィルムの厚さを定めるのに、干渉スペクトルが使用することができます。   技術の利点の間で紫外線にそれ以上が測定なされるという事実、シンナーは分析することができるフィルムあります。  逆に、器械はまた更にスペクトルの赤いですか長波長領域に移動によって厚いフィルム厚さを定めることができます。  さらに、紫外線目に見えるNIR microspectroscopy 非破壊的であり、サンプル準備は最小です。  このペーパーの目的は技術のユーティリティを詳しく述べ、あるサンプル結果を示すことです。

実験および結果

印刷されたテスト半導体チップはサンプルとして使用されます。  裸のケイ素は参照として使用されます。  それ以上の準備は必要となりません。  サンプルは microspectroscopy によって分析して今準備ができています。

QDI 100™の紫外線目に見えるNIR 範囲のマイクロ・スペクトル光度計は分析のために使用されました。  Quantum の検出の器械の一連 (QDI) のマイクロ・スペクトル光度計は顕微鏡のサンプルのスペクトルの小さな変更を検出するように設計されています。  QDI 100™のマイクロ・スペクトル光度計は科学的な等級のアレイ CCD の探知器、 TE の冷却、高い分光解像度を、長期にわたる安定性、低雑音、および機能サンプルの伝達、反射率および 1 の x 1 ミクロン小さい蛍光性スペクトルを得る特色にします。  

サンプルは QDI 100™に置かれ、画像は得られます。  顕微鏡は反射率照明を用いる Koehler の照明のためにセットアップされます。  図 1 は分析される半導体チップの画像を表示します。  ソフトウェアは自動的に器械を最適化し、スペクトルは分析されるべきペンキの層の領域上の黒い正方形を単に置くことによって得られます。  スペクトルは得られ、結果はより遅い分析のためのコンピュータで保存されます。

半導体チップの図 1. 画像。  黒い正方形はマイクロ・スペクトル光度計の開口です。

図 2 はチップで各々の着色されたセクションをスキャンした結果を示します。  図 2 は青、赤くおよび白いセクションの反射率スペクトルのオーバーレイスペクトルです。  スペクトル領域は安定させたキセノンランプおよび CCD の探知器を使用して 200 から 850 nm まであります。  スペクトルは 10 の x 10 ミクロンの開口とのスキャンごとの 100 ミリ秒に 50 のスキャンの平均です。


図 2. 赤く白くおよび青セクションの反射率スペクトルの上にあられたプロット。

図 3 はチップの 5 つの位置で青いセクションのスペクトルを取った結果を示します。  これは器械の安定性が高いのそして再現性を証明します。  必要であれば、各セクションのためのフィルムの厚さはそれから断固としたであることができます。

図 3. 5 つの位置で取られる青の層の反射率スペクトルの上にあられたプロット。

それは分光情報を得やすく、半導体のさまざまな位置からの干渉縞は非有害欠きます。  スペクトルおよび高解像の画像の点では両方 QDI 100™のマイクロ・スペクトル光度計からの結果の品質、背部この表明。  任意選択ソフトウェアを使用して、各位置で沈殿したまたフィルムの厚さは意図します QC のためのデータベースの構築に加えて断固とした、であることができます。

一次著者: ポール・マーティン先生
ソース: 半導体ウエハーの紫外目に見えるNIR 反射率 Microspectroscopy
このソースのより多くの情報のために CRAIC の技術を訪問して下さい

Date Added: Apr 28, 2008 | Updated: Jun 11, 2013

Last Update: 13. June 2013 18:00

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